Gebraucht C-SUN PRS #9271179 zu verkaufen

Hersteller
C-SUN
Modell
PRS
ID: 9271179
Weinlese: 2010
Scrubber Material of chamber: Aluminum alloy whit surface treatment Inner chamber: Ø 380 mm x H 305 mm Application of solar cell: Edge isolation Texture Inductively Coupled Plasma (ICP) source RF Generator: 13.56 MHz, 1000 W Standard gas: O2 Gas flow control: Analog type MFC Dry pump: >150 m³ / hr Base pressure: >10^-2 Torr Process pressure: 50~200 m Torr Automatic system: 15" TFT Panel / IPC / Windows 2000 XP 2010 vintage.
C-SUN PRS ist ein Wafer & Maskenwäscher, der für den Einsatz in Halbleiterherstellungslaboren entwickelt wurde. Es verwendet ein starkes waschmittelverdünntes Wasser-Luft-Gemisch, um Partikel und Verunreinigungen auf der Wafer- und Maskenoberfläche zu lösen. Der Wäscher entfernt nicht nur Partikel, sondern sorgt auch für eine effektive Entfettung, um die Oberflächen ihrer beabsichtigten Oberflächenchemie wiederherzustellen. PRS ist eine robuste Ausrüstung, die einen Plattformwäscher verwendet. Seine große Trichterkapazität ermöglicht die Bearbeitung von bis zu 45 Wafern und bis zu drei Masken in einem Zyklus. C-SUN PRS ist mit verstellbaren Düsen und Sprühköpfen ausgestattet, um die Reinigungslösung präzise zu liefern. Das Rezirkulationssystem des Wäschers sorgt dafür, dass die Reinigungslösung ständig im Kreislauf geführt wird, was auch bei Vorhandensein dichter Partikel eine gleichmäßige Reinigung ermöglicht. Darüber hinaus wird eine leistungsstarke Pumpe verwendet, um Hochdruckflüssigkeit in die Wafer und Masken zu injizieren und hartnäckige Partikel effektiv zu lösen. Die Einheit ist in einem Gehäuse aus Edelstahl mit einem weit geöffneten Deckel für einfaches Zubehör untergebracht, das eine schnelle und klare Sichtprüfung der Komponenten ermöglicht. Es läuft mit dreiphasiger Leistung bei 415V und ist in der Lage, für über 2000 Zyklen und 200 kontinuierliche Stunden der Nutzung laufen. Wasser und Reinigungsmittel werden automatisch überwacht, um sicherzustellen, dass ihre Werte nicht zu hoch oder zu niedrig sind. Die optionale integrierte Filtrationsmaschine ermöglicht es PRS auch, gelöste Partikel aus der rezirkulierten Reinigungslösung zu entfernen und ihre Wirksamkeit zu verbessern. C-SUN PRS ist ein vollautomatisches Werkzeug, das mehr Flexibilität und Komfort für seine Bediener ermöglicht. PRS durchläuft komplette Reinigungszyklen ohne weitere Eingriffe oder Anpassungen nach dem Beladen der Wafer und Masken. Es ist auch mit benutzerfreundlicher Software ausgestattet, mit der Benutzer ihre Parameter mit einer bequemen und intuitiven Datenerfassung überwachen und steuern können. C-SUN PRS erfüllt die strengen Standards der Branche in Bezug auf Partikelentfernung, Sauberkeit und Kosteneffizienz. Seine robuste Konstruktion macht es unempfindlich gegen Verschleiß, und seine automatisierten Funktionen machen es kostengünstig und einfach zu bedienen. Seine benutzerfreundliche Software und das weit geöffnete Deckeldesign machen es zu einer guten Wahl für Halbleiterherstellungslabore, die nach einem zuverlässigen und genauen Wafer- und Maskenwäscher suchen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor