Gebraucht C-SUN PRS #9283776 zu verkaufen

C-SUN PRS ist ein automatisierter Wafer- und Maskenwäscher, der entwickelt wurde, um eine fortschrittliche Reinigung, eine hochwirksame Entfernung der Waferkantenkontamination und Neukonstruktionsanwendungen für die Halbleiterherstellung zu ermöglichen. PRS ist ein Dual-Unit-Gerät, das in der Lage ist, zwei Arten von Operationen parallel durchzuführen, die gesamte Prozesszeit zu minimieren und die Kosteneffizienz zu erhöhen und gleichzeitig die höchsten Industriestandards für Ertrag und Prozessqualität zu erfüllen. C-SUN PRS verwendet eine Kombination aus mechanischer Bürsten- und Waferkantenreinigungstechnologie, um eine erstklassige Entfernung von Waferkantenverunreinigungen zu ermöglichen. Eine speziell entwickelte Waferkantenschablone hilft Ingenieuren, die Bürstenlänge zu kontrollieren und den Reinigungswinkel genau zu steuern, um Belichtungsvorfälle oder Unfälle zu reduzieren. Erhältlich in einer Vielzahl von anpassbaren Bürstendruckeinstellungen, kann die Ausrüstung die Bürstengeschwindigkeit und den Druck je nach Formgröße und Art leicht anpassen. Das ergonomische und intuitive Design ermöglicht es dem Bediener, Waferkantenreinigungsvorgänge schnell und mit größerer Präzision und Sicherheit durchzuführen. PRS enthält auch fortschrittliche Maskenwäsche-Technologie, die eine schnelle und vollständige Entfernung von Feinstaub ermöglicht, auch die schwierigsten Rückstände. Die polierten Waferoberflächen werden dann durch einen speziell konstruierten chemischen Reaktor geleitet, um eventuelle Reststoffe und Verunreinigungen zu entfernen. Die automatische chemische Analyse hilft dem Bediener, die am besten geeignete Reinigungslösung schnell zu identifizieren, während die optimierte Temperatur- und Feuchtigkeitsregelung eine optimale Waferleistung und -ausbeute gewährleistet. C-SUN PRS kommt mit einer Reihe von erweiterten Funktionen entwickelt, um den Durchsatz zu maximieren und den Komfort zu erhöhen, wie das integrierte RFID-System für die Verfolgung des Prozesses vom Maschinenstart bis zum vollständigen Abschalten der Einheit. Die optionale automatische Patronenaustauschmaschine ermöglicht ein schnelles und einfaches Umschalten zwischen Waferkanten- und Maskenreinigungsvorgängen, wodurch der Bediener seine Aufgabe ohne manuellen Eingriff erledigen kann. Erhältlich mit einer Reihe von voll integrierten Software-Tools für die Waferreinigung, Edge ReDesign und Maskenwäsche bietet PRS eine effiziente und kostengünstige Möglichkeit, saubere und funktionale Wafer vor und nach der Herstellung zu warten. Von einfachen Wartungsanwendern bis hin zu fortgeschrittenen Kantenwartungsanwendern ist dieser automatisierte Wafer- und Maskenwäscher die ideale Wahl, um höchste Ausbeute und Qualität zu erzielen.