Gebraucht CONVAC DSS 200 #105098 zu verkaufen

CONVAC DSS 200 ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der in Halbleiterherstellungsprozessen weit verbreitet ist. Es wurde speziell entwickelt, um eine beispiellose Reinigungsleistung von empfindlichen Siliziumscheiben und Photomasken zu gewährleisten und gleichzeitig eine kontaminationsfreie Umgebung zu gewährleisten. DSS 200 ist mit einer Reihe fortschrittlicher Funktionen ausgestattet, um eine kontaminationsfreie Umgebung zu gewährleisten. Es verwendet ein hocheffizientes rückgewelltes Schüttgut, um den Luftstrom zu erhöhen und die Kontamination von Reinräumen zu verringern. Der Schrubber ist auch mit einer Umweltalarmausrüstung ausgestattet, die den Benutzer auf ungewöhnliche Veränderungen in der Reinraumumgebung aufmerksam macht. Das System ist mit einem Faltenfilter für eine effizientere Partikelentfernung ausgestattet. Der Wäscher ist so konzipiert, dass er Verunreinigungen bis zu 0,5 Partikel/cm2 Luft erreicht. Es wurde mit verschiedenen Materialien wie Silizium und Resist getestet und hat hervorragende Ergebnisse in Bezug auf die Partikelentfernung erzielt. Der Wäscher ist in der Lage, die gesamte Oberfläche des Substrats einschließlich der Ecken und Kanten zu reinigen, die oft schwer zu erreichen sein können. Darüber hinaus ist CONVAC DSS 200 mit einer Selbstüberwachungseinheit ausgestattet, die es ermöglicht, auf höchstem Wirkungsgrad zu arbeiten. Es ist mit einer automatisierten Temperaturregelmaschine für optimale Wafer-, Masken- und Substratreinigungsleistung ausgelegt. Mit diesem Tool kann der Scrubber auch kontinuierlich ausgeführt werden, was konsistente Ergebnisse über mehrere Reinigungszyklen hinweg gewährleistet. DSS 200 wurde entwickelt, um die Reinraumkontamination auf ein Minimum zu reduzieren. Es ist mit einer HEPA-Filteranlage und einem Reinraum-Abgaskontrollmodell ausgestattet, mit dem die Partikelwerte auf 1/10 des maximal zulässigen Grenzwerts reduziert werden können. Es verfügt auch über eine Kontaminationssammelanlage, die Partikel in einem Nanofilter einfängt, bevor sie erschöpft sind, wodurch die Kontamination im Reinraum minimiert wird. Schließlich ist CONVAC DSS 200 mit einer benutzerfreundlichen Oberfläche ausgestattet, die eine einfache Konfiguration und Wartung ermöglicht. Das benutzerfreundliche Design macht es einfach zu bedienen und einzurichten. Das System ist in der Lage, Statusaktualisierungen in Echtzeit bereitzustellen und kann zur dynamischen Überwachung und Wartung an einen PC oder vernetzten Drucker angeschlossen werden. Insgesamt ist DSS 200 ein zuverlässiger und effizienter Wafer- und Photomasken-Wäscher, der eine beispiellose Reinigungsleistung und Kontaminationskontrolle bietet. Die fortschrittlichen Funktionen und das benutzerfreundliche Design machen es zu einer idealen Wahl für die Halbleiterproduktion.