Gebraucht CS ENG CTS 5500 #9373016 zu verkaufen

CS ENG CTS 5500 ist eine Wafer & Maske Wäscher Ausrüstung entwickelt, um die Reinigung von gemusterten Wafern und Masken im Halbleiter Produktionsprozess zu automatisieren und zu verbessern. Das System ist in der Lage, eine breite Palette von Substratmaterialien und Formen wie runde, rechteckige und asymmetrische Wafer sowie Rechtecke und Eisen zu reinigen. Das CTS 5500-Gerät verwendet eine doppelte Wäscherkonfiguration mit einem Hochgeschwindigkeitswäscher mit hohem Wirkungsgrad auf der einen Seite für größere Wafer und einem langsameren, leistungsstärkeren Wäscher auf der anderen Seite für kleinere Wafer. Dieser doppelseitige Waschvorgang ermöglicht eine bessere allgemeine Waschabdeckung sowohl von Wafer- als auch von Maskenbereichen bei gleichzeitiger Verringerung des Risikos einer Beschädigung von strukturierten Merkmalen. CS ENG CTS 5500 ist mit einer Surface Plate Detection Maschine ausgestattet, die hohe Geschicklichkeit, intuitive Programmierung verwendet, die es dem Wäscher ermöglicht, die Submikron-Partikel auf den Wafern und Masken zu erkennen und zu zielen. Dieses fortschrittliche Werkzeug gewährleistet eine vollständige Reinigung der Wafer- und Maskenoberflächen bei minimalem menschlichen Eingriff. Darüber hinaus enthält CTS 5500 auch ein integriertes, schalloptimiertes Vakuum-Asset und einen integrierten Cool Jet Siphon, der die Wafer und Masken vor Überhitzung und möglichen Schäden durch Scheuerreibung schützt. Das CS ENG CTS 5500 Modell bietet eine voll integrierte Prozesssteuerung mit einer grafischen Benutzeroberfläche (GUI), die sowohl benutzerfreundlich als auch intuitiv ist. Diese Benutzeroberfläche ermöglicht es Benutzern, die Scrubber-Parameter einfach zu konfigurieren, die Scrubbing-Leistung zu überwachen und den gesamten Wafer- und Maskenreinigungs- und Trocknungsprozess mit Leichtigkeit zu steuern. Das System wird auch mit mehreren Standardrezepten programmiert, die nach Bedarf verwendet und geändert werden können. CTS 5500 ist eine robuste, zuverlässige und effiziente Wäschereinheit, die eine Gesamtlösung für Wafer und Masken bietet. Es hat die Fähigkeit, eine breite Palette von Substratformen und -größen zu reinigen, und seine fortschrittliche Waschtechnologie sorgt für eine vollständige, konsistente und effektive Reinigung jeder Wafer- und Maskenoberfläche. Mit seiner benutzerfreundlichen GUI und integrierten Prozesssteuerungsmaschine ist das CS ENG CTS 5500-Tool eine ideale Wahl, um die Reinigungsergebnisse zu verbessern und gleichzeitig Zeit und Energiekosten zu minimieren.