Gebraucht DAITRON ARIS LCD 100 #9285702 zu verkaufen

DAITRON ARIS LCD 100 ist ein All-in-One-Wafer- und Maskenwäscher für Ultrareinraum-Anwendungen. Dieser Wäscher ist mit einem vollständig umschlossenen, luftdichten Stahlschrank konstruiert, der eine minimale Umweltverschmutzung beim Waschen gewährleistet. Der Wäscher besteht aus einer Edelstahlkammer mit einem Außenschrank aus gebürstetem Aluminium. DAITRON ARIS-LCD100 hat zwei Waschstufen, die primäre und die sekundäre Stufe. In der Primärstufe werden Wafer mit einem Verfahren gereinigt, das die Ultrasonic Clean Equipment (UCS) und ein Oberflächenwäschesystem kombiniert. Die UCS verwendet hochfrequente Hochdruck-Ultraschallwellen, die tief in die Wafer eindringen, so dass organische und mineralische Verunreinigungen effektiv entfernt werden können. Die Oberflächenreinigungseinheit poliert den Wafer mit seinen vier rotierenden Bürsten weiter, die die Waferoberfläche für eine überlegene Oberfläche kräftig schrubben. Die Sekundärstufe konzentriert sich auf eine gründliche Maskenreinigung. In dieser Phase hilft ein automatisierter Roboterarm bei der genauen Positionierung jeder Maske vor einer präzise gestalteten Düse, so dass das gezielte Versprühen von Hochdruckdampf alle Partikel vollständig von der Maskenoberfläche entfernt. Die Reinigungsmaschine verfügt außerdem über einen automatischen Waferverstellmechanismus, der eine effiziente Reinigung von Wafern unterschiedlicher Größe ermöglicht. ARIS LCD 100 verfügt auch über ein SPS-Steuerwerkzeug, das eine benutzerfreundliche Touchscreen-Schnittstelle bietet, die eine einfache und präzise Steuerung von Waferreinigungsprozessen ermöglicht. Die SPS-Steuerung ermöglicht zudem eine exakte Temperatur- und Feuchtigkeitskontrolle innerhalb der Reinigungskammer, so dass präzise Reinigungsparameter für Waferoberflächen und Masken stets eingehalten werden. ARIS-LCD100 ist aufgrund seiner außergewöhnlichen Leistung und überlegenen Reinigungsfunktionen ideal für Ultra-Reinraumanwendungen geeignet. Es sorgt für eine vollständige Kontaminationsentfernung von Wafern und Masken, ohne auf Qualität, Genauigkeit oder Reinigungsgeschwindigkeit zu verzichten.