Gebraucht DAITRON DSC-100CV #9292365 zu verkaufen

DAITRON DSC-100CV Wafer & Mask Scrubber ist eine fortschrittliche Waschanlage zur Reinigung und Entfernung von Halbleiterpartikeln von Substraten wie Wafern, Masken und Flachplatten. DSC-100CV verfügt über eine einzigartige halbautomatische Reinigungseinheit und ein variables Laminar Flow-Design für effizienteres Waschen von Partikeln, was eine höhere Qualität und bessere Erträge ermöglicht. Das System ist in der Lage, Substrate bis 200 mm Größe bei Geschwindigkeiten von bis zu 70 U/min und bei Temperaturen von 25 ° C bis 60 ° C zu waschen. Darüber hinaus wurde DAITRON DSC-100CV für die Arbeit mit Reinraum-Umgebungen entwickelt, die eine vollständige Umweltkontrolle gewährleisten. DSC-100CV verfügt über eine robuste Konstruktion und ist mit einem verstellbaren Maskenhalter sowie einem einzigartigen Schneidemechanismus ausgestattet, um eine präzise Maskenreinigung zu gewährleisten. Das abnehmbare Seitenbürstendesign ermöglicht es Benutzern, leicht auf Substrate zuzugreifen und diese zu reinigen und gleichzeitig mögliche Schäden am Substrat zu reduzieren. Darüber hinaus verfügt das Gerät über ein LCD-Bedienfeld, mit dem Benutzer Echtzeitparameter wie Waschgeschwindigkeit, Temperatur und Druck überwachen können. Der eingebaute Edelstahlrahmen mit Ständer bietet ein robustes Fundament für die Maschine und ermöglicht gleichzeitig einen einfachen Transport der Einheit. Das Werkzeug verwendet ein einzigartiges halbautomatisches Reinigungsverfahren, das eine Kombination aus einem abrasiven Reinigungsmedium, einer flexiblen Bürste und einem flüssigen Tensid verwendet, um Partikel effektiv von der Oberfläche des Substrats zu entfernen. Die abrasive Wirkung der Medien zusammen mit dem Tensid hilft, Partikel zu lösen und Spülwirkung aus dem Wäscher sorgt dafür, dass die Partikel vollständig entfernt werden. Der Wäscher durchläuft dann eine Reihe von Hoch- und Niedergeschwindigkeits-Luftmessern, um den Wassergehalt weiter zu reduzieren und die Partikelgröße zu reduzieren. DAITRON DSC-100CV Wafer & Mask Scrubber ist ideal für die Reinigung von Substraten wie Wafern, Masken und Flachplatten und eignet sich besonders für den Einsatz in Halbleiterumgebungen. Die fortschrittliche Reinigungstechnik sowie das halbautomatische Verfahren machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für eine Vielzahl von Reinigungsanwendungen. Mit robuster Konstruktion und ausgeklügelten Steuerungssystemen bietet das Asset Anwendern erstklassige Leistung und Zuverlässigkeit.