Gebraucht DAITRON DSC-100CV #9294594 zu verkaufen

ID: 9294594
Weinlese: 2012
Wafer scrubber 2012 vintage.
DAITRON DSC-100CV Wafer und Maskenwäscher ist eine kompakte, automatisierte Reinigungsanlage, die optimale Reinigungsergebnisse bei minimaler Prozesszeit liefert. Es wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Wafern und Masken zu handhaben, die von winzigen Halbleiterchips bis hin zu großen, flachen Solarzellen reichen. Der Wäscher verfügt über eine programmierbare Reinigungsgeschwindigkeit, einen einstellbaren Reinigungswinkel und einen leistungsstarken Vakuummotor, um Partikel und Verunreinigungen sicher und schnell aus Wafern und Masken zu entfernen. Das einzigartige Drei-Achsen-Design von DSC-100CV sorgt für eine effektive und zuverlässige Reinigungsleistung, da er den Wafer oder die Maske sowohl in der x- als auch in der y-Achse dreht, während er sich gleichzeitig von vorne nach hinten in der z-Achse bewegt. Diese Bewegung beseitigt tote Stellen in der Mitte, wodurch sichergestellt wird, dass die gesamte Oberfläche des Wafers oder der Maske gewaschen wird. Ein Elektrodenreinigungssystem ist ebenfalls in den Wäscher integriert, um elektrische Ladungen zu steuern, die das Festhalten von Partikeln an der Oberfläche bewirken können. DAITRON DSC-100CV ist mit einer kompakten und hocheffizienten Gasfördereinheit ausgestattet, die den Wafer oder die Maske während des Waschvorgangs desinfiziert. Der Wäscher wird durch einen Luftvorhang und eine eingebaute Filtermaschine vor Staub und anderen Verunreinigungen geschützt. Es verfügt auch über eine intuitive Benutzeroberfläche mit einem vollfarbigen LCD-Touchpanel, die eine einfache Bedienung und Programmierung ermöglicht. Der Benutzer kann den Reinigungsprozess auch frei anpassen, indem er die Anzahl der Scheuern, die Drehzahl und den Luftdurchsatz anpasst. DSC-100CV ist die ideale Lösung für die industrielle Reinigung von Wafern und Masken. Es ist sehr vielseitig und kann eine Vielzahl von Topologien, Substrattypen und Reinigungsgeschwindigkeiten aufnehmen. Es bietet auch eine ausgezeichnete Partikelentfernung und ein hohes Maß an Oberflächenqualität. Seine einfache Bedienung und benutzerfreundliche Oberfläche machen es zu einem unschätzbaren Werkzeug zur Verbesserung der Prozesseffizienz und zur Senkung der Kosten im Fließband.
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