Gebraucht DAITRON IM15 #9383799 zu verkaufen

DAITRON IM15 ist einer der fortschrittlichsten Wafer- und Maskenwäscher, die es gibt. Dieser Wäscher wurde speziell zur Reinigung und Wiederverwendung von Halbleitermasken und Wafern bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt. Es liefert ein hohes Maß an Präzision und bietet höchste Qualität und Leistung zur Verfügung. Dieser Scrubber wurde entwickelt, um die Produktivität in Serienumgebungen zu erhöhen. Es verfügt über eine automatisierte Prozesssteuerungseinrichtung und Sensorsteuerungen, die eine präzise Rückmeldung des Wafer/Masken-Waschprozesses zur besseren Qualitätskontrolle liefern. Der Wäscher ist mit einem patentierten Micro-Fiber Filter ausgestattet, der das ultimative Entfernen von Partikeln und Abscheidung aus dem Wafer unter Beibehaltung seines ursprünglichen Oberflächenprofils ermöglicht. Das System weist auch eine beispiellose Anzahl von Waschparametern auf, die eingestellt werden können, um die gewünschten Reinigungs- und Wascheffekte für das jeweilige zu waschende Substrat zu erzielen. Neben der automatisierten Prozesssteuerung verfügt IM15 Scrubber über ein integriertes Smart MEMS (Micro-Electro Mechanical Unit) und weitere fortschrittliche Überwachungs- und Reinigungstechnologien. Diese Technologien tragen zur Erhöhung der Präzision und Effizienz des Waschprozesses bei. Der Scrubber umfasst ein optisches Mikroskop und eine Bibliothek von Rezepten, um die Konsistenz über Schrubben hinweg aufrechtzuerhalten. Die Bedienung des Wäschers ist einfach und einfach. Es wird über ein einziges LCD-Touchscreen-Bedienfeld mit 10 voreingestellten Rezeptbibliotheken und einer konfigurierbaren GUI-Schnittstelle betrieben. Des Weiteren ist eine umfassende Palette von Prozessregelparametern vorgesehen, die an spezifische Waschanforderungen angepaßt werden können. Insgesamt ist DAITRON IM15 scrubber ein High-End-Wafer und Maskenwäscher mit hervorragender Reinigungsabdeckung, Überwachung und Automatisierung. Dies ist eine ideale Maschine, um die Produktivität in einer Halbleiterherstellungsumgebung zu erhöhen und maximale Wafer- und Maskenqualität und -leistung zu gewährleisten.