Gebraucht DISCO DCS 140 #9302501 zu verkaufen

DISCO DCS 140 ist ein leistungsstarker und effizienter Wafer- und Maskenwäscher aus Japan. Dieser fortschrittliche Wäscher wurde entwickelt, um alle Arten von Partikeln und Verunreinigungen von Wafern und Fotomasken zu entfernen. Die Maschine verfügt über eine Transporteinrichtung, die für verschiedene Größen von Wafern und Masken geeignet ist. Die Wafer- und Maskenwäscher weisen eine Basiseinheit, eine Hilfseinheit, ein Düsensystem und eine Wascheinheit auf. Die Basiseinheit besteht aus einem Bedienfeld mit einem Touchscreen-Display mit benutzerfreundlicher Bedienung, einem Mikroprozessor zur Steuerung von Wafer- und Maskentransportvorgängen, einer Stromversorgung, einer Alarmmaschine und einer Druckluftlösung. Das Transportwerkzeug besteht aus einem Transportband mit großem Transportrad, Vakuumsaugzylindern und Hubarmen. Das Band ist in der Lage, einzelne Wafer oder Maske von der Haupteinheit zu be- und entladen. Die Vakuum-Saugzylinder sorgen für einen effizienten Transport und die Hebearme sorgen für den nötigen Druck, um sie an Ort und Stelle zu halten. Das Düsenelement verfügt über ein doppeltes Düsenmodell, mit dem der Wäscher beide Seiten von Wafern und Masken reinigen kann. Die Düsenausrüstung verfügt über einstellbare Winkel, Strahlbreiten und rotierende Luftströme für optimale Reinigungsleistung. Das Waschsystem ist so eingerichtet, daß der Luftstrom durch eine geneigte Schrägebene geleitet wird, die auf die Größe der zu reinigenden Wafer und Masken eingestellt ist. Die Einheit verfügt außerdem über einen Drehwascharm, um ein gleichmäßiges Waschen zu gewährleisten. DISCO DCS140 ist ein effizienter und leistungsstarker Wäscher für Wafer und Masken, der eine effiziente, zuverlässige Leistung und ein benutzerfreundliches Bedienfeld bietet. Mit seinem verstellbaren Wascharm, der Düsenmaschine und dem Transportwerkzeug profitieren die Benutzer von allen Funktionen dieses fortschrittlichen Wäschers. Der Wafer- und Maskenwäscher sorgt für eine effektive und effiziente Reinigung einer Vielzahl von Substraten und ist damit eine gute Wahl für Reinigungsanwendungen in der Halbleiterindustrie.