Gebraucht DISCO DCS 141 #293807257 zu verkaufen

DISCO DCS 141
ID: 293807257
Spin dryer.
DISCO DCS 141 ist ein Wafer- und Maskenwäscher für den Einsatz in der Chipherstellung. Es ist mit einer modernen Reinigungsausrüstung ausgestattet, die empfindliche Wafer und Masken von mehreren Substraten vollständig reinigen und schrubben kann. DISCO DCS141 hat auch die Fähigkeit, bis zu 40 Halbleiterscheiben in einem Zyklus zu verarbeiten, was es zu einer idealen Wahl für die Serienproduktion macht. Der Wäscher besteht aus einer zweistufigen Reinigungskammer, die die CVD-Reinigungstechnik (Pulsed Chemical Vapor Deposition) sowie Bürsten und Polierwafer verwendet. Dieses fortschrittliche System bietet einen gründlichen und konsistenten Reinigungsprozess. In der ersten Stufe legt die CVD-Reinigungstechnik einen Schaum ab, der Partikel und Flecken auf der Wafer- und Maskenoberfläche löst. Anschließend wird der Schaum in der zweiten Stufe mit Bürsten und Polierwellen entfernt. Dadurch werden Verunreinigungen und Schutt vom Substrat entfernt und mögliche Materialschäden minimiert. DCS 141 ist auch mit einem integrierten Feuchtigkeitssensor ausgestattet, der es erlaubt, die relative Luftfeuchtigkeit in der Kammer zu erfassen. Dies ermöglicht eine bessere Kontrolle des Prozesses und sorgt dafür, dass die Wafer und Masken mit entsprechender Feuchtigkeit beaufschlagt werden. Darüber hinaus verfügt der Wäscher über einen Multi-Mode-Betriebsmodus, der unterschiedliche Wischzeiten und Reinigungsintensitäten ermöglicht und eine Vielzahl von Betriebsbedingungen ermöglicht. Darüber hinaus ist DCS141 mit einem benutzerfreundlichen LCD-Bildschirm und einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die den Bedienern detaillierte Informationen über den Reinigungsprozess bietet. Der Scrubber verfügt auch über einen erweiterten Task-Workflow und eine Diagnoseeinheit, die den Status des Prozesses überwachen. Dadurch wird eine gleichbleibende Qualität der durch den Wäscher verarbeiteten Materialien gewährleistet. DISCO DCS 141 ist ein zuverlässiger und effizienter Wafer- und Maskenwäscher, der empfindliche Substrate mit Leichtigkeit und Konsistenz verarbeiten kann. Seine fortschrittliche Reinigungsmaschine ist entworfen, um optimale Ergebnisse mit jedem Zyklus zu liefern, so dass es eine ideale Wahl für jede Späneherstellungsanlage.
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