Gebraucht DISCO DCS 141 #9355561 zu verkaufen

DISCO DCS 141 Wafer und Maskenwäscher ist eine Präzisionsreinigungsanlage, die für den Einsatz in fortgeschrittenen Halbleiterwafer- und Maskenreinigungsanwendungen entwickelt wurde. Das System ist für Reinräume konzipiert und verfügt über ein in sich geschlossenes Waschmodul, das mit verschiedenen Waschmaterialien wie Wasser, Lösungsmittel und Ammoniak kompatibel ist. Das Waschmodul ist mit einem temperaturgeregelten Bad ausgestattet und verwendet Vier-Wege-Druckausgleichsventile, um eine konstante Waschwirkung zu gewährleisten. Die Wascheinheit ist in der Lage, bis zu 100 Wafer oder Masken in einem Zyklus zu waschen. Der Waschvorgang beginnt mit einer Dusche von entionisiertem Wasser, um Staub, Schmutz und andere Oberflächenverunreinigungen von der Wafer- oder Maskenoberfläche zu entfernen. Es folgt eine Vorseide mit wäßriger Lösung zur weiteren Reinigung der Wafer- oder Maskenoberfläche. Der dritte Verfahrensschritt ist die eigentliche Waschung, die mit verschiedenen Waschmitteln durchgeführt wird, die speziell nach dem Wafer- oder Maskenmaterial ausgewählt werden. Der Waschvorgang wird mit einem Nachspülzyklus abgeschlossen, um sicherzustellen, dass das verbleibende Waschmittel gründlich weggespült wird. Weitere Merkmale der Maschine sind ein einstellbares Förderband zur Bewegung der Wafer oder Masken durch den Waschvorgang sowie eine PC-basierte grafische Benutzeroberfläche (GUI) zur einfachen Überwachung und Steuerung des Werkzeugs. Die Anlage enthält auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, die die Sicherheit der Arbeitnehmer während des Betriebs gewährleisten sollen. Diese Sicherheitsmerkmale umfassen eine Sicherheitsverriegelung, die bei geöffnetem Deckel einen Waschvorgang verhindert, und Druckbegrenzungsventile, um einen übermäßigen Druckaufbau in der Waschkammer zu verhindern. DISCO DCS141 ist für den Einsatz in Serienumgebungen konzipiert und eignet sich ideal für Wafer- und Maskenreinigungsanwendungen, die präzise und wiederholbare Ergebnisse erfordern. Die Kombination aus hochpräziser Technologie und robusten Sicherheitsmaßnahmen macht das Modell zu einer zuverlässigen und effizienten Reinigungslösung, die zur Aufrechterhaltung höchster Wafer- oder Maskenqualität beitragen kann.