Gebraucht DMS M208 #9399896 zu verkaufen

DMS M208 Wafer & Mask Scrubber ist ein Gerät zur Reinigung von Wafern und Masken in Halbleiter-Wafer-Fertigungsanlagen. Es wurde entwickelt, um Staub, Schmutz und andere Verunreinigungen von Masken- und Waferoberflächen zu entfernen und gleichzeitig sicher, effizient und automatisiert zu reinigen. Der Schrubber ist ergonomisch und modular aufgebaut, mit einer benutzerfreundlichen Oberfläche und einfacher Bedienung. Es kann mehrere Wafergrößen und Masken bis einschließlich 200mm Größe aufnehmen. Der Wäscher verfügt über ein fortschrittliches, patentiertes dreistufiges Reinigungsverfahren, das eine Flüssigkeitsblasenwäsche, Oberflächenwäsche und eine abschließende Spülspülung umfasst. Jede Stufe ist entworfen, um Partikel, Teilchenfragmente, Schutt und andere Verunreinigungen von den Wafer- und Maskenoberflächen zu entfernen, um ein sauberes, intaktes Produkt zu gewährleisten. Die Flüssigkeitsblasenwäschestufe dient dazu, lose Partikel und Oberflächenverunreinigungen von den Oberflächen der Wafer und Masken zu entfernen. Diese automatisierte Stufe verwendet eine Niederdruck-flüssige Lösung auf Waschmittelbasis in Kombination mit Stickstoffblasen, um einen schonenden und effektiven Reinigungsprozess zu schaffen. Die Waschbühne verwendet ein Soft-Scrub-Pad, entweder im manuellen oder automatisierten Format, um die Oberflächen der Wafer und Masken sanft zu schrubben und Verunreinigungen zu entfernen, ohne die Oberflächen zu markieren. Der Wäscher verfügt auch über eine einstellbare Härte und Kegelsteuerung Werkzeug, um die richtige Schrubbwirkung sowohl auf Maske und Wafer Oberflächen zu gewährleisten. Schließlich verwendet die Spülstufe Wasser und Stickstoffblasen, die bei niedriger Druckeinstellung aufgebracht werden, um alle Restreste, Schmutz und Abfälle aus den Wafern und Masken zu entfernen. M208 Wafer & Mask Scrubber ist als sicheres, effizientes und automatisiertes Gerät zur Reinigung von Wafern und Masken konzipiert. Das ergonomische und modulare Design, die benutzerfreundliche Oberfläche und die einfache Bedienung machen es zu einer idealen Reinigungslösung für Wafer- und Maskenproduktionsanlagen. Das fortschrittliche, patentierte dreistufige Reinigungsverfahren sorgt für ein sicheres, sauberes und intaktes Produkt mit einem einstellbaren Härte- und Kegelsteuerungswerkzeug für eine optimale Reinigung. DMS M208 Wafer & Mask Scrubber ist das ideale Gerät für eine effiziente und effektive Reinigung von Wafern und Masken.