Gebraucht DMS M208 #9399897 zu verkaufen

DMS M208 ist ein Wafer und Mask Scrubber, der von der DMS Corporation entwickelt wurde, um eine effiziente und kostengünstige Lösung zur Reinigung und Wartung von Wafer- und Maskensubstraten zu bieten. Der Wäscher bietet mit seinen mechanischen Bürstensystemen und der sicheren Lösungsmittelentfernungstechnologie einen vielseitigen und empfindlichen Waschprozess. M208 ermöglicht es dem Benutzer, beide Oberflächen eines Wafers und Maskensubstrats gleichzeitig zu reinigen und zu pflegen. Es verfügt über ein Auto-Index-System für mehrere Wafer, um Zeit zu sparen und die Produktivität zu erhöhen. Die eingebauten Sicherheitsmerkmale ermöglichen einen Schutz vor Beschädigung oder Kontamination. Der Wäscher ist mit Präzision und Genauigkeit entwickelt, mit einer ausziehbaren Düse für maximale Reichweite und eine Reihe von integrierten LED-Leuchten für die Sichtbarkeit. Darüber hinaus verfügt der Scrubber über CCTVausgestattet mit einem intuitiven Softwarepaket zur einfacheren Programmierung. Der Wäscher kann für eine Vielzahl von Aufgaben verwendet werden, vom leichten Materialabtrag bis zum Entgraten. Die modernsten Bürstensysteme sind entweder auf Glas- oder Quarzscheiben einstellbar. DMS M208 kann auch mit einem manuellen oder automatischen Dosiersystem ausgestattet werden, um Lösungsmittel auszugeben und den Flüssigkeitsfluss zu steuern. Der Wäscher ist mit einer Vielzahl von entzündlichen und nicht entzündlichen Lösungsmitteln kompatibel, so dass er in chemisch intensiven Umgebungen verwendet werden kann. Der Wäscher verfügt auch über abnehmbare Lösungsmittelbehälter für einfache Wartung und Nachfüllung. M208 Wafer und Maske Scrubber ist das ideale Werkzeug, um Wafer- und Maskensubstrate in unberührtem Zustand zu halten. Sein effizientes Design und seine fortschrittlichen Eigenschaften machen es zu einem Must-Have für jede Fertigungsanlage. Mit seinen einstellbaren Bürstensystemen, der Präzisionsdüse und der einfachen Bedienung gewährleistet DMS M208 jedes Mal eine kostengünstige und zuverlässige Reinigung von Wafer- und Maskensubstraten.