Gebraucht DMS M208 #9399898 zu verkaufen

DMS M208
Hersteller
DMS
Modell
M208
ID: 9399898
Weinlese: 2010
Foup cleaners 2010 vintage.
DMS M208 ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der den Reinigungsprozess der Halbleiterherstellung automatisiert. Der Wäscher ist mit fünf integrierten Modulen ausgestattet, darunter Kassetten-zu-Kassetten-Transport, Vorsättigungsspülung, Schrubben, Endreinigung und Trocknung. Dieser automatisierte Prozess entfernt organische Verunreinigungen von der Vorder- und Rückseite mehrerer geätzter Komponenten in einem Zyklus. Die Reinigung beginnt mit dem Kassetten-zu-Kassetten-Transport, der dem Benutzer die Kassetten geätzter Komponenten entnimmt und zur Vorsättigungsspülstation bewegt. Diese Station sättigt die geätzten Komponenten mit einer flüssigen Lösung, üblicherweise einer verdünnten Lösung von Wasserstoffperoxid oder Natriumhydroxid (NaOH). Diese Lösung wird mit einem Sprühsprüher aufgetragen und verwendet, um eventuelle Restpartikel aus den geätzten Komponenten zu entfernen. Die nächste Station ist die Scheuerstation, die mit mehreren Scheuerbürsten und Scheuerplatten ausgestattet ist. Diese Waschbürsten werden verwendet, um die organischen Verunreinigungen mit Hilfe der waschbaren Platten aus den geätzten Komponenten zu entfernen. Diese Station enthält auch eine Dusche mit niedrigem Durchfluss, um eine gleichmäßige Waschleistung zu gewährleisten. Nach dem Waschen werden die Komponenten zur Endreinigungsstation gebracht und dort chemikalienfreier Reinigung und Endtrocknung unterzogen. Dieses Verfahren entfernt eventuell verbleibende organische Verunreinigungen oder restliche chemische Partikel. Anschließend werden die gewaschenen und gereinigten Komponenten in die Trocknungsstation überführt. Dabei wird den Komponenten Feuchtigkeit entzogen und sie sind bereit, zur Rückgabe an den Anwender in ihre jeweiligen Kassetten überführt zu werden. M208 ist ein vollautomatisches System, das eine minimale Bedienerinteraktion erfordert. Es ist in der Lage, bis zu 99% Partikelabtragung Effizienz zu erreichen und ist für eine breite Palette von Halbleiterherstellung Anforderungen ausgelegt. Es reduziert Produktionsausfallzeiten, steigert die Erträge und verringert die Verschmutzung im Produktionsprozess.
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