Gebraucht DMS PDCLN #293608705 zu verkaufen

DMS PDCLN
Hersteller
DMS
Modell
PDCLN
ID: 293608705
Pre-depo cleaner Tact time: 40 s Working area: 2,200 mm x 2,500 mm.
DMS PDCLN ist ein leistungsstarker Wafer- und Maskenwäscher, der von Disruptive Materials Solutions (DMS) entwickelt wurde. Diese Vorrichtung ist so ausgelegt, dass unerwünschte Partikel entfernt werden, ohne dass die Wafersubstrate beschädigt werden. Es verwendet ein Reinigungssystem, das aus zwei einzigartigen Komponenten besteht - dem Scheuerkopf und der Reinigungslösung. Der Scheuerkopf besteht aus einer präzise konstruierten Struktur mit variablen Strahllöchern, einem stationären Strahlkopf und einem variablen Strahlkopf. Dies ermöglicht es, Partikel bis zu 0,1 m genau anzuzielen (0,004 für die Maskenreinigung erforderlich). Die Düsen werden durch einen Hochleistungsluftstrom angetrieben, der hilft, Partikel von der Substratoberfläche zu entfernen. Darüber hinaus ist dieses System mit einer automatischen Verstellfunktion ausgestattet, die die Einstellung der Waschkraft ermöglicht und so eine optimale Reinigungswirkung erzielt. Die in PDCLN verwendete Reinigungslösung ist speziell formuliert, um eine effiziente und effektive Partikelentfernung zu gewährleisten. Die pH-ausgeglichene Flüssigkeit enthält Tenside, Emulgatoren und Waschmittel, die alle darauf ausgelegt sind, die Oberflächenspannung zu reduzieren und Verunreinigungen aufzulösen, ohne die Wafer zu schädigen. Darüber hinaus ist diese Lösung mit einer Vielzahl von Substraten, einschließlich porenfreier sowie poröser Materialien, kompatibel. Neben der fortschrittlichen Reinigungstechnologie verfügt DMS PDCLN auch über ein umfassendes Wartungsprotokoll, das regelmäßige Wartungs-, benutzerdefinierte Wartungs- und Fehlererkennungsdiagnosen umfasst. Die Wartung soll Ausfallzeiten reduzieren, die Leistung verbessern, die Lebensdauer der Maschine erhöhen und den Energieverbrauch reduzieren. Insgesamt ist PDCLN ein fortschrittlicher Wafer- und Maskenwäscher, der auf maximale Effizienz ausgelegt ist. Seine Präzisionstechnik gewährleistet die genaue Entfernung von Schutt, seine automatisierte Anpassung unterstützt bei der Erzielung eines überlegenen Reinigungsergebnisses und sein umfassendes Wartungsprotokoll sorgt für optimale Leistung. Infolgedessen ist es eine ausgezeichnete Wahl für Organisationen, die nach einem zuverlässigen Wafer- und Maskenreiniger suchen.
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