Gebraucht DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293617845 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer & Mask Scrubber ist eine zuverlässige, hocheffiziente Reinigungsanlage zur Entfernung von Partikeln von der Oberfläche von Wafern und Masken in Halbleiterherstellungsprozessen. Das System verwertet fortgeschrittene Vibrationsschwingungsreinigungstechnologie, um Partikeln von den Oberflächen von Oblaten und Masken schnell und effizient zu schrubben. DNS SS-3000-AR beinhaltet zwei Waschkammern mit jeweils einem vibrierenden Reinigungskopf. Die Waschkammern können bis zu 3000mm2 Wafer & Maskenmaterial aufnehmen. Der Scheuerkopf wird von einem leistungsstarken Motor angetrieben, der auf drei Geschwindigkeiten einstellbar ist und den Scheuerkopf bei hohen Frequenzen vibriert. Der Waschkopf ist in der Lage, sowohl die Oberfläche als auch die Kanten des Wafer- und Maskenmaterials zu schrubben und Partikel sowohl von der Außen- als auch von der Innenseite des Materials zu entfernen. Der Waschkopf kann sich auf drei Reinigungsgeschwindigkeiten einstellen, was eine effiziente und gründliche Reinigung ermöglicht. Das Gerät ist mit Drucksensoren ausgestattet, um während jedes Zyklus einen angemessenen Waschdruck zu gewährleisten. Die Maschine ist auch mit einem Hightech-Partikeldetektor ausgestattet, der Partikel bis zu 0,1 μ m auf der Oberfläche des Materials detektieren kann. DAINIPPON SS 3000 AR ist mit einer robusten Konstruktion gebaut, die extremen Temperaturen, Staub, Feuchtigkeit und Stößen standhält. Das Tool beinhaltet auch eine effektive Umweltkontrolle, um die Umwelt der Waschkammern sauber und frei von Verunreinigungen zu halten. DNS SS 3000 AR verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche mit leicht verständlichen, mehrsprachigen Menüs, die eine schnelle und einfache Einrichtung und Bedienung ermöglichen. Zusätzlich kann ein externes Datenerfassungsmodell an die Geräte angeschlossen werden, was eine umfassende Prozesskontrolle und Rückverfolgbarkeit ermöglicht. DAINIPPON SS-3000-AR Wafer & Mask Scrubber ist eine effiziente und effektive Reinigungslösung, die selbst kleinste Partikel von der Oberfläche von Wafern und Masken entfernt. Die robuste Konstruktion, Präzisionsdrucksteuerung und der leistungsstarke Waschkopf machen ihn ideal für den Einsatz im Halbleiterherstellungsprozess und sorgen für saubere und zuverlässige Ergebnisse.