Gebraucht DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293627542 zu verkaufen

ID: 293627542
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Wafer scrubber, 12" (3) Load ports Controller (3) MFC / Pressure unit Drive mechanism Chamber A and B: Process: Wafer surface clean Chuck: Vacuum chuck Spray: Soft spray N2 10~100NL/min Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ Spin dry: 3,000 rpm Chamber C and D: Process: Wafer backside clean Chuck: Mechanical chuck Brush: PVA Brush Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ Spin dry: 2,400 rpm Multi-chambers system: Unit position 1 / U03 SS (surface) / CO2water Unit position 2 / U04 SS (surface) / CO2water Unit position 3 / U05 SS (backside) / CO2water Unit position 4 / U06 SSR (backside) / CO2water Gas configuration: Gas line 1: C4F6 200 sccm- STEC D519 / C4F6 200 Gas line 2: COS 30 sccm - STEC D519 / COS 30 Gas line 3: O2 20 sccm - STEC D519 / O2 20 Gas line 4: O2 3000 sccm - STEC D519 / O2 3000 Gas line 5: CH2F2 200sccm - STEC D519 / CH2F2 200 Gas line 6: C4F8 200 sccm - STEC D519 / C4F8 200 Gas line 7: O2 200 sccm - STEC D519 / O2 200 Gas line 8: Ar 1000 sccm - STEC D519 / AR 1000 Gas line 9: CHF3 200 sccm - STEC D519 / CHF3 200 Gas line 10: H2 300 sccm - STEC D519 / H2 300 Gas line 11: NF3 30 sccm - STEC D519 / NF3 30 Gas line 12: N2 500 sccm - STEC D519 / N2 500 Gas line 13: CF4 200 sccm - STEC D519 / CF4 200 Tuning gas 4/line 14: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10 Tuning gas 3/line 15: C4F6 10 sccm - STEC D519_L / C4F8 10 Tuning gas 2/line 16: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10 Tuning gas 1/line 17:C4F6 10 sccm- STEC D519_L / C4F6 10 ATM, EFEM: 4 Wide EFEM type Power supply: 208 AC, 3 Phase 2006 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer and Mask Scrubber ist eine hochmoderne, zuverlässige und einfach zu bedienende Maschine zur Reinigung von Wafern und Masken. Diese weit verbreitete Ausrüstung verfügt über hochpräzise Wafer- und Maskenreinigungsoperationen mit einer geringen Partikelgröße. Der umfassende Reinigungsmechanismus dieses Wäschers zeichnet sich durch Schwingungen und Schlingen aus, um Partikelverunreinigungen und Restchemikalien schnell, aber schonend zu entfernen. Dieses System ist für überlegene Reinigungsleistung durch innovative Technologie und Vorentwicklung entwickelt. DNS SS-3000-AR wurde mit einer effizienten Reinigungsarchitektur entwickelt, die einen Wafer- und Maskenwäscher-Modul, einen Sloshing Quick Scrubber, ein Chemical Injection Module und einen Nasswäscher umfasst. Das Wafer- und Maskenwäschermodul besteht aus einer Schüssel, Schiebern und einem Pinsel. Die Schieber sind motorisiert, um Partikel schonend und schonend kontrolliert wegzuspülen. Die Bürste reinigt weich Schmutz und andere Verunreinigungen aus dem Wafer, unter Berücksichtigung seiner empfindlichen Zusammensetzung. Zusätzlich spritzt das Chemical Injection Module genau Reinigungslösung in die Waschschüssel, um den Chemikalienverbrauch effizient zu reduzieren. Der Wet Scrubber entfernt dann den Schmutz und die chemische Lösung nach Abschluss des Waschvorgangs weiter. Darüber hinaus kann diese Einheit mit einer Vielzahl von Reinigungslösungen, einschließlich entionisiertem Wasser, Isopropylalkoholen und verdünnter Salzsäure, schrubben. Der eigentliche Reinigungsvorgang ergibt sich aus einer Kombination von Schwingungen und Schwingbewegung, was zu einer überlegenen Wirksamkeit der Waschvorgänge führt. Darüber hinaus ermöglicht dieser Wäscher auch eine molekulare Reinigung mit einer Partikelgröße von bis zu 0,3 μ m. Ein weiteres großes Merkmal ist die Möglichkeit, eine breite Palette von Parametern entsprechend dem Reinigungszweck einzustellen, einschließlich Wäscher, Amplituden und Vorwäschezeit. Dadurch kann dieser Wäscher für verschiedene Reinigungszwecke mit hoher Präzision und Genauigkeit eingesetzt werden. DAINIPPON SS 3000 AR Wafer und Maske Scrubber ist auch benutzerfreundlich. Diese Maschine ist mit intuitiven LCD-Touch-Displays und leicht verständlichen Menüs ausgestattet, was die Bedienung der Maschine zu einem Kinderspiel macht. Das LCD-Display bietet ein umfassendes Verständnis des Scrubbing-Fortschritts und möglicher Fehler und vermittelt gleichzeitig schnell alle relevanten Informationen. Abschließend ist SS-3000-AR Wafer and Mask Scrubber ein unglaublich effizientes und benutzerfreundliches Werkzeug, um Wafer und Masken mit hoher Präzision und Genauigkeit zu reinigen. Es ist mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, um Reinigungsparameter mit Akribie anzupassen, während es auch intuitive und einfach zu bedienende LCD-Displays bietet. Mit seinem umfassenden Reinigungsmechanismus wird dieses Gut sicherlich überlegene Reinigungsergebnisse in kurzer Zeit liefern.
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