Gebraucht DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293627543 zu verkaufen
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ID: 293627543
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Wafer scrubber, 12"
(3) Load ports
Controller
(3) MFC / Pressure unit
Drive mechanism
Chamber A and B:
Process: Wafer surface clean
Chuck: Vacuum chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Rinse: DIW/ CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 3,000 rpm
Chamber C and D:
Process: Wafer backside clean
Chuck: Mechanical chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Brush: PVA Brush
Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 2,400 rpm
Multi-chambers system:
Unit position 1 / U03 SS (surface) / CO2water
Unit position 2 / U04 SS (surface) / CO2water
Unit position 3 / U05 SS (backside) / CO2water
Unit position 4 / U06 SSR (backside) / CO2water
Gas configuration:
Gas line 1: C4F6 200 sccm- STEC D519 / C4F6 200
Gas line 2: COS 30 sccm - STEC D519 / COS 30
Gas line 3: O2 20 sccm - STEC D519 / O2 20
Gas line 4: O2 3000 sccm - STEC D519 / O2 3000
Gas line 5: CH2F2 200sccm - STEC D519 / CH2F2 200
Gas line 6: C4F8 200 sccm - STEC D519 / C4F8 200
Gas line 7: O2 200 sccm - STEC D519 / O2 200
Gas line 8: Ar 1000 sccm - STEC D519 / AR 1000
Gas line 9: CHF3 200 sccm - STEC D519 / CHF3 200
Gas line 10: H2 300 sccm - STEC D519 / H2 300
Gas line 11: NF3 30 sccm - STEC D519 / NF3 30
Gas line 12: N2 500 sccm - STEC D519 / N2 500
Gas line 13: CF4 200 sccm - STEC D519 / CF4 200
Tuning gas 4/line 14: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 3/line 15: C4F6 10 sccm - STEC D519_L / C4F8 10
Tuning gas 2/line 16: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 1/line 17:C4F6 10 sccm- STEC D519_L / C4F6 10
ATM, EFEM: 4 wide EFEM type
Power supply: 208 AC, 3 Phase
2005 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer & Mask Scrubber ist ein äußerst zuverlässiges, effizientes und präzises Werkzeug zur Reinigung von Wafer- und Maskenoberflächen mit vollautomatischen, mehreren Betriebsarten. Dieser Wäscher wurde als Teil eines fortgeschrittenen Halbleiterherstellungsprozesses erstellt. Der Wäscher verwendet druckbeaufschlagtes, heißes Wasser mit Reinigungsmitteln und Niedervakuumsaugung, um die Oberfläche des Wafers und der Maske effektiv zu schrubben. Dieser Prozess erzeugt eine perfekt ebene und glatte Oberfläche, die ein perfektes Ätzmuster während des nächsten Schritts der physikalischen Dampfabscheidung ermöglicht. Der Wäscher enthält auch eine feine Reinigungsausrüstung, um sicherzustellen, dass alle kleinen Partikel, die während der Reinigung von der Oberfläche entfernt werden. Der Wäscher verfügt über eine breite Palette von Funktionen, darunter eine leistungsstarke und energieeffiziente Pumpe, die nur etwa zwei bis drei Druckpässe für die Reinigung verwendet, und eine separate Niedervakuumsaugung für die Partikelentfernung. Außerdem verfügt die Pumpe über einen einstellbaren Durchsatz zur besseren Steuerung des Reinigungsprozesses. Darüber hinaus verfügt der Schrubber über einen ultrahohen Präzisionsmodus, so dass das Gerät präzise winzige Bereiche im Wafer oder der Maske anvisieren und schrubben kann. Der Wäscher ist außerdem mit einer Bewegungssteuerung ausgestattet, die leicht einstellbar und programmierbar ist. Mit dieser Funktion kann der Bediener den Scrubber an die jeweilige Aufgabe anpassen. Die Bewegungssteuerung sorgt auch dafür, dass der Wäscher sicher und zuverlässig eingesetzt wird. Für zusätzlichen Komfort und Genauigkeit kommt DNS SS-3000-AR Wafer & Mask Scrubber mit digitaler Bildverarbeitungssoftware, die mit der Bewegungssteuerungsmaschine des Scrubbers arbeitet. Diese Software ist in der Lage, Unvollkommenheiten in der Oberfläche eines Wafers oder einer Maske zu analysieren und zu erkennen, sodass sie Anpassungen an den Einstellungen des Scrubbers vornehmen kann, um die Oberfläche schnell und effektiv zu reinigen. Insgesamt ist DAINIPPON SS 3000 AR Wafer & Mask Scrubber ein zuverlässiges und effizient gestaltetes Werkzeug, das qualitativ hochwertige, gleichmäßige Oberflächen für jede Wafer oder Maske schaffen kann, die für die Halbleiterindustrie vorbereitet wird. Mit seinem hochpräzisen Asset, effizienten Energiesparfunktionen und digitaler Bildverarbeitungssoftware kann die DS-3000-AR sicherstellen, dass die für den Fertigungsprozess vorbereiteten Oberflächen ordnungsgemäß gereinigt, gleichmäßig und ätzbereit sind.
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