Gebraucht DNS / DAINIPPON SS-3100 #293591331 zu verkaufen

ID: 293591331
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
Wet clean wafer scrubber, 12" Process: TMAH Scrub (4) Load ports (8) Scrubber process cups TMAH Chemical cabinet Does not include Hard Disk Drive (HDD) Stand alone power / Power supply cabinet 2008 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3100 ist ein Wafer/Maskenwäscher der DNS Screen Mfg. Co., Ltd., der fortschrittliche Reinigungs- und Waschlösungen für die Halbleiterindustrie anbietet. DNS SS-3100 wurde entwickelt, um Partikel und Verunreinigungen aus Wafern und Masken in einer Vielzahl von Anwendungen wie Photolithographie, Planarisierung und Inspektion zu entfernen. Der Wäscher verwendet fortschrittliche Automatisierungstechnologie, um einen sicheren, effizienten und kontrollierten Wafer/Masken-Reinigungsprozess bereitzustellen. Es ist mit einem Vierkopf-Wäscher und einem vollautomatischen Wasser- und Lösungsmittelabgabesystem für eine präzise und gleichmäßige Reinigung ausgestattet. Der SC-3100 Scrubber ist in der Lage, mehrere Arten von Substraten zu handhaben und unterstützt in-situ Peeling von Substraten und Masken bis zu 8x10 Zoll (200x250mm). Der Wäscher ist mit zwei unabhängigen Waschköpfen, zwei getrennten Behältern für Wasser und Lösungsmittel sowie einem System zur automatisierten Wasser- und Lösungsmittelabgabe gebaut. Der Wäscher enthält auch eine Temperatur- und Neigungsregelung, die die Waschtemperaturen stabil hält und hilft, konstante Substrat-zu-Substrat-Wechselwirkungen aufrechtzuerhalten. Das Touchscreen-Display des Scrubbers ermöglicht eine einfache, benutzerfreundliche Bedienung. DAINIPPON SS 3100 bietet auch erweiterte Funktionen wie eine Waferzuführungsoption, eine Maskenausrichtungsfunktion und eine Massenstation, um die höchste Automatisierungsstufe zu bieten. Der Wäscher verfügt über ein konfigurierbares Waschverfahren, das verschiedene Substratmaterialien wie Si, Keramik und andere Materialien unterstützt. SS 3100 ist mit einem Edelstahlrahmen konzipiert und dient als IP66 Schutz vor Staub und Wassereintritt. Das Gerät kann einfach in bestehende Systeme integriert werden. Der Schrubber ist benutzerfreundlich und pflegeleicht gestaltet. Es ist in der Lage, Vor- und Nachwaschungen gleichzeitig durchzuführen, um einen qualitativ hochwertigen Reinigungsprozess zu gewährleisten. Sein fortschrittliches Design sorgt für eine präzise und konsistente Scheuerwirkung mit hervorragenden Reinigungsergebnissen. Der Schrubber enthält eine breite Palette an Zubehör zur Verbesserung des Schrubbvorgangs und bietet die Möglichkeit zur Anpassung. Insgesamt ist DAINIPPON SS-3100 Wafer und Maskenwäscher von DAINIPPON eine fortschrittliche und zuverlässige Reinigungslösung für die Halbleiterindustrie. Es ist hochgradig konfigurierbar, bietet präzises und konsistentes Schrubben und seine benutzerfreundliche Oberfläche bietet einen einfacheren und effizienteren Reinigungsprozess.
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