Gebraucht DNS / DAINIPPON SS-W80A-A #9306109 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SS-W80A-A ist eine fortschrittliche Wafer- und Maskenwäscher-Ausrüstung von DNS Screen Co., einem führenden Hersteller von Halbleitern und industriellen Ausrüstungen in Japan. Dieser Wafer & Maskenwäscher ist ein automatisiertes Stand-Alone-System, das problemlos in bestehende Reinraumbearbeitungssysteme integriert werden kann. DNS SSW 80A A verwendet eine fortschrittliche „Around-the-Wafer“ -Waschtechnologie, um Partikel, ionische Kontaminationen und andere Materialien automatisch von den Oberflächen von Halbleiterprozessscheiben und Photomasken zu entfernen. DAINIPPON SSW_80A_A ist mit einem bewährten, kostengünstigen Verfahren zur Entfernung von Partikeln aus Photomasken und Wafern konzipiert. Das Gerät ist mit einer innovativen „Around-the-Wafer“ -Waschtechnologie ausgestattet, bei der sich der Waschkopf in einer exzentrischen Bewegung um die Waferoberfläche dreht, um die Anzahl der Partikel zu reduzieren. Es ist in der Lage, hochpräzise Wäsche, mit einer Geschwindigkeit von 20 U/min oder höher. Die Bewegung des Waschkopfes ist einstellbar und kann auf die Geometrie des Wafers oder der Fotomaske abgestimmt werden, wodurch eine vollständige Reinigungsabdeckung mit minimalem Materialabfall gewährleistet ist. Die Maschine ist auch in der Lage, jede Anomalie in der Waferoberfläche während des Waschens zu erkennen, um eine genaue Reinigung aller Waferoberflächen zu gewährleisten. SS-W80A-A ist mit Sicherheit und Zuverlässigkeit im Auge. Es verfügt über ein erweitertes Steuerwerkzeug, das eine optimale Abfolge und Geschwindigkeit von Schrubbstrichen für jeden Wafer und jede Maske bietet. Es bietet auch ein flexibles Timing der Waschhübe, um die Daten aus der vorreinigenden Inspektion aufzunehmen. Das Asset verfügt über eine grafische Benutzeroberfläche, die eine einfache und intuitive Bedienung des Modells ermöglicht. Das Gerät hat auch eine Reihe von erweiterten Funktionen. Es ist in der Lage, sowohl positive als auch negative Photoresist zu waschen, um die gewünschten Mengen an rückstandsfreien Oberflächen zu halten. Es kann auch verwendet werden, um die Ritz- und Perlenentfernungsleitungen auf Wafern zu reinigen, um die Lebensdauer des Wafers zu verlängern. Das System verfügt über eine leistungsstarke Absaugvorrichtung, um Partikel effektiv und staubfrei zu extrahieren und auszustoßen. Darüber hinaus verfügt es über eine fortschrittliche Chemikalienmanagementeinheit, die es Anwendern ermöglicht, chemische Abfälle schnell und einfach zu verwalten. Insgesamt ist DNS SS-W80A-A Wafer und Maskenwäscher eine zuverlässige und effiziente Maschine zur Reinigung von Wafern und Photomasken. Mit seinen vollautomatischen und anpassbaren Scrubbing-Technologien und seiner intuitiven Benutzeroberfläche ist dieses Tool eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Halbleiterprozess- und Produktionsanwendungen.