Gebraucht DNS / DAINIPPON SS-W80A-AR #9149127 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SS-W80A-AR Wafer & Mask Scrubber ist eine hochkompakte automatisierte Waschanlage, die speziell für die Reinigung von Halbleiterphotomasen entwickelt wurde. Dieses System besteht aus drei Waschmodulen: dem Waferwäscher, dem Maskenwäscher und dem Predryer. Das Waferwäschermodul besteht aus einer universellen Transporteinheit, die bis zu acht 6-Zoll-Waferkassetten unterstützt. Die Maschine ist mit einem 3-achsigen, hochauflösenden automatischen Wafer-Rotator ausgestattet, der in der Lage ist, eine Vielzahl von Wafergrößen einschließlich Retikeln bis 200 mm Durchmesser zu drehen. Anschließend wird der Wafer mit einer Waschlösung gesprüht und gesprüht, um eine gründliche Reinigung zu gewährleisten, gefolgt von einer Hochdruckspülung. Das Maskenwäschermodul ist für die Reinigung von flüssigen Bronzemasken ausgelegt und besteht aus einem dreiachsigen mechanischen Roboterarm, der automatisch auf einen optimalen Scheuerwinkel positioniert wird. Dadurch wird sichergestellt, dass alle Oberflächenfehler effektiv aus der Maske entfernt werden. Anschließend wird die Maske gesprüht und mit einer Waschmittellösung gewaschen, gefolgt von einer Hochdruckspülung. Das Vortrocknungsmodul ist ein Kochplattentrocknungswerkzeug, das aufgrund der erhöhten Oberflächentemperatur jegliches Restgas vor der Wäsche von Wafer und Maske abdichtet. Die Anlage besteht aus einer elektrischen Heizung, die eine maximale Temperatur von 800 ° C erreichen kann, und einem Signalerfassungsmodell zur Erfassung der thermischen und Spannungsänderung der Kochplatte. Das Gerät ist zudem mit zweistufigen Temperaturzeitgebern ausgestattet, die eine präzise Steuerung des Trocknungszyklus ermöglichen. DNS SSW80A-AR ist als effektives Reinigungssystem für Halbleiterphotomasen konzipiert. Der modulare Aufbau sorgt dafür, dass alle drei Waschmodule gleichzeitig eingesetzt werden können, was eine hocheffiziente Reinigung von bis zu acht 6-Zoll-Wafern und bis zu sechzig Masken in einem Prozess ermöglicht. Darüber hinaus sorgt sein Kochplattenvortrockner dafür, dass kein Restgas auf der Oberfläche der Wafer und Masken verbleibt, was eine hochzuverlässige Materialbearbeitung ermöglicht.