Gebraucht DNS / DAINIPPON SS-W80A-AR #9280571 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON SS-W80A-AR
ID: 9280571
Weinlese: 1996
Scrubber 1996 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-W80A-AR ist ein Wafer- und Maskenwäscher für postlithographische Prozesse. Diese Systeme bieten Zuverlässigkeit und Produktivität und senken gleichzeitig die Kosten für den Herstellungsprozess. DNS SSW80A-AR ist in der Lage, sowohl Wafer- als auch Maskenoberflächen zu schrubben, was eine höhere Qualität der Lithographie und glattere Oberflächen ermöglicht. Der Waferwäscher kann Partikel, Staub und andere Verunreinigungen aus Wafern entfernen, was die Genauigkeit und Gleichmäßigkeit der Lithographie verbessert. Es bietet auch eine verbesserte Ätzleistung gegenüber herkömmlichen Naßwaschverfahren. DAINIPPON SSW-80A-AR hat einen 1-stufigen Halbleiterschrubber-Kontaktkopf. Der Kontaktkopf ist druckeinstellbar und ermöglicht ein gleichmäßiges und konsistentes Waschen. Der Wäscher verwendet auch eine Hochspannungsfolie, um einen engen Kontakt zwischen Wafer und Wäscherkopf zu gewährleisten. Der Wäscher verfügt über ein innovatives 2-stufiges Wafer-Waschverfahren mit mechanischen und chemischen Waschverfahren. Der mechanische Waschschritt nutzt 18.000 Umdrehungen pro Minute, um die Wafer und die Maske zu schrubben und Staub und Verunreinigungen aus dünnen, engen Ecken zu entfernen. Der chemische Waschschritt nutzt eine Hochdruckdusche zur Applikation der chemischen Ätzmittel. SS W80A AR-Wäscher ist auch mit einem effektiven Kühlmittelkreislauf ausgelegt, um eine Überhitzung der inneren Komponenten zu verhindern. Darüber hinaus verfügt es über eine automatische Reinigung und eine Sicherheitsöffnungsabdeckung. Insgesamt ist DNS SS-W80A-AR ein zuverlässiger und effizienter Wafer- und Maskenwäscher. DNS SSW-80A-AR wurde entwickelt, um Verunreinigungen, Staub und Schutt von Wafer- und Maskenoberflächen zu entfernen. Mit seinem zweistufigen Waschverfahren, dem druckeinstellbaren Kontaktkopf und dem innovativen Kühlmittelkreislaufsystem ist dieser Wäscher eine ausgezeichnete Wahl für eine fortschrittliche lithographische Nachbearbeitung.
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