Gebraucht DNS / DAINIPPON SS-W80A-AVR #293591705 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SS-W80A-AVR Wafer & Maskenwäscher ist eine automatisierte Wafer- und Maskenreinigungsanlage, die verwendet werden kann, um die schwierigsten und komplexesten Oberflächenverunreinigungsprobleme anzugehen. Es verwendet eine proprietäre Kombination aus Druck und chemischen Prozessen, um die höchste Sauberkeit auf den Oberflächen von Wafern und Masken zu erreichen, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden. Das System besteht aus einem integrierten Waschmodul, das auf einer Plattform montiert ist und aus mehreren Komponenten besteht, darunter einem Druckbehälter, einem Stützboden, einem chemischen Reservoir, einer Waschbürste und einer chemischen Einspritzeinheit. Der Druckbehälter ist für Wafer bis 450 mm Durchmesser und Masken bis 300 mm Breite ausgelegt. Es wurde entwickelt, um in Kombination mit chemischen Niedertemperaturlösungen Partikel, Böden und organische Rückstände von der Oberfläche des Substrats zu entfernen. Der Stützboden hält den Druckbehälter und bietet eine verstellbare Plattform, auf der der Druckbehälter entsprechend unterschiedlicher Reinigungszyklusanforderungen angehoben oder abgesenkt werden kann. Es fungiert auch als Plattform für die Montage des Waschmoduls, des chemischen Reservoirs und der Einspritzmaschine. Bei der Wascheinheit handelt es sich um ein zylindrisches Gehäuse mit einer Reihe von Wafer- und Maskenhalterungen, mit denen das Substrat während des Waschvorgangs gehalten wird. Die Waschbürste ist an der Oberseite der Einheit angebracht, um eine wirksame Reinigung der Substratoberfläche zu gewährleisten. Der chemische Vorratsbehälter liefert die Reinigungslösung für den Prozess. Es ist ein temperaturgesteuertes Werkzeug, das präzise chemische Mischungsverhältnisse und Durchflussmengen für optimale Reinigungsergebnisse ermöglicht. Die Einspritzeinrichtung soll die beheizte, vorgemischte Reinigungslösung in den Druckbehälter einspritzen. Auf diese Weise wird sichergestellt, dass das Substrat gleichmäßig und gründlich mit der Reinigungslösung beschichtet ist, was zur Gewährleistung konsistenter Reinigungsergebnisse beiträgt. Neben der Reinigungseinheit umfasst das Modell auch eine Reihe von Überwachungs- und Steuergeräten, wie die Monitorsteuerung. Diese Komponente soll sicherstellen, dass die Geräte während des gesamten Prozesses optimale Leistung und Sauberkeit erhalten. DNS SS-W80A-AVR Wafer und Maskenwäscher liefern höchste Reinigungsergebnisse auf der Substratoberfläche. Mit seinem integrierten Design, der automatisierten Reinigung und dem Präzisionsdruckbehälter ist es die ideale Lösung für anspruchsvollste Wafer- und Maskenreinigungs- und Schadstoffentfernungsanwendungen.