Gebraucht DNS / DAINIPPON SS-W80A-AVR #9235502 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SS-W80A-AVR ist ein Wafer- und Maskenwäscher für die Halbleiterherstellung. Es wird verwendet, um Oberflächenverunreinigungen von Wafern und Photomasken vor der Verarbeitung zu entfernen. Der Wäscher wurde entwickelt, um die Oberflächen mit einer Kombination aus Druckluft und Ultraschallemission sowie Spray und Bürsten zu reinigen. Das Gerät hat eine Gesamtbreite von 48,78 Zoll, eine Tiefe von 59,2 Zoll und eine Höhe von 44,48 Zoll. Es ist mit einer großen, transparenten Sicherheitsabdeckung und einem Fußabdruck von nur 4,7 m ² ausgestattet. Dieser Wafer und Maskenwäscher hat zwei Hauptreinigungskomponenten: eine Nassreinigungsstation und eine chemische Reinigungsstation. Die Nassreinigungsstation verfügt über drei Düsen, die einen Hochdruckstrom von Reinigungsflüssigkeit abgeben, sowie eine Sonobürste, um die Oberfläche der Maske und des Wafers zu reinigen. Der Wäscher verwendet eine Kombination aus Luft und Flüssigkeit, um Oberflächenverunreinigungen aufzubrechen und zu entfernen. Zur Nassstation gehört auch eine gefilterte Rezirkulationspumpe zur effizienten Rückführung der Reinigungsflüssigkeit. Die Trockenreinigungsstation ist ein Gegendruck-, Zwangsluftsystem, das einen Luftstrom verwendet, um verbleibende Oberflächenverunreinigungen sowie eine rotierende Bürste zur Oberflächenveredelung abzublasen. Die Pinselstriche können sowohl in horizontaler als auch in vertikaler Richtung eingestellt werden, was ein präziseres Reinigungsergebnis ermöglicht. DNS SS-W80A-AVR verfügt auch über mehrere Sicherheitsfunktionen zum Schutz von Personal und Ausrüstung, wie eine Nothaltetaste, eine Scharniersicherheitstür und einen integrierten Partikelfängerschutz. Darüber hinaus ist der Wäscher mit einem Bedienfeld mit taktilen Membranschaltern und einer vierstelligen, siebensegmentigen LED-Anzeige ausgestattet, die Prozessüberwachung und Echtzeit-Berichtsgenerierung ermöglicht. Insgesamt ist DAINIPPON SSW-80A-AVR ein zuverlässiger und innovativer Wafer- und Maskenwäscher, der entwickelt wurde, um Wafer und Masken vor der Verarbeitung sicher und effizient zu reinigen. Mit seiner Kombination aus Nass- und Trockenreinigung sowie seinen Sicherheitsmerkmalen und dem Bedienfeld ist der Wäscher eine ideale Wahl für die Halbleiterherstellung.