Gebraucht DNS / DAINIPPON SSW-60A-AR #293689357 zu verkaufen
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ID: 293689357
Wafergröße: 6"
Spin scrubber, 6"
Non-SMIF Type
Loading position type: Left side
No GEM Controller
3-Colors signal tower
(2) Reverse units
Indexer unit:
Type: (4) Cassette
Wafer defect sensor and vaccumless A type
Transfer robot
TR Unit:
Dual arm transfer robot
Wafer defect sensor
Back-side spin unit:
Mechanical chuck
Brush nozzle
DIW1, DIW2, Back rinse, Brush rinse, N2 Blow and N2 Purge
Front-side unit:
Vacuum chuck
Brush nozzle
Jet nozzle
DIW1, DIW2, Back rinse, Jet rinse, N2 Blow and N2 Purge
Side cabinet:
Jet pump
Meghcon cabinet
R/D Rack
Missing parts:
Servo AMO
5-Axis drive
T/R Board
2000 vintage.
DNS/DAINIPPON SSW-60A-AR ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der den Reinigungsanforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Der Wäscher verwendet eine Vielzahl von Reinigungsdüsen und Bürsten, um Wafer- und Maskenoberflächen effizient zu reinigen und zu pflegen. Der Schrubber ist mit einem 135 Grad verstellbaren Kopf ausgestattet. Der verstellbare Kopf ermöglicht eine präzise Reinigung und Winkelregelung der Waferoberfläche, was bei der Anwendung chemischer Waschmittel wesentlich ist. Zusätzlich ist der Wäscher mit einem vollautomatischen Reinigungssystem ausgestattet, das den Wasch- und Trocknungsprozess automatisiert. Der Schrubber wird von einem hocheffizienten bürstenlosen Gleichstrommotor angetrieben, der eine starke und stabile Reinigungsleistung bietet. Der Schrubber verfügt über eine Vollmetallkonstruktion, die eine außergewöhnliche Haltbarkeit und Zuverlässigkeit in Produktionsanwendungen gewährleistet. Darüber hinaus ist der Wäscher mit einer Vielzahl von Reinigungsdüsentypen für eine Vielzahl von Wafer- und Maskenreinigungsanwendungen ausgestattet. Der Wäscher ist in der Lage, in ultrafeinen Reinigungsmodi zu waschen, einschließlich der Methoden CPU (chemische Behandlung), ED (elastische Verformung) und PR-L (Primer-Reduktion). Zusätzlich weist der Wäscher eine breite Palette von Reinigungsgeschwindigkeiten im Bereich von 0,1 bis 10.000 Umdrehungen pro Minute auf. Diese Geschwindigkeiten bieten eine feine, konsistente Kontrolle über den Waschvorgang. Der Wäscher erzeugt eine deutlich reduzierte Partikelumgebung, da er mit einer Anti-Clogging-Funktion ausgelegt ist, die während der Reinigung erzeugte Partikel eliminiert. Dadurch entfällt die Notwendigkeit, aufwendige Partikelsammelgeräte im Reinraum zu erreichen. Schließlich ist DNS SSW60A-AR kompatibel mit einer Reihe von verschiedenen Arten von Wafergrößen, einschließlich 200mm und 300mm. Dadurch ist sichergestellt, dass der Wäscher in verschiedenen Produktionsanwendungen eingesetzt werden kann. Abschließend ist DAINIPPON SS-W60A-AR ein sehr vielseitiger und zuverlässiger Wafer- und Maskenwäscher. Der Wäscher sorgt für eine präzise Reinigung von Wafer- und Maskenoberflächen, hat einen hocheffizienten bürstenlosen Gleichstrommotor und ist mit einer Vielzahl von Wafergrößen kompatibel. Darüber hinaus ist der Wäscher so konzipiert, dass er eine partikelfreie Reinigungsumgebung schafft und somit ideal für Reinraumproduktionsanwendungen geeignet ist.
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