Gebraucht DNS / DAINIPPON SSW-629-B #293808883 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SSW-629-B ist ein leistungsstarker und vielseitiger halbautomatischer Wafer- und Maskenwäscher, der speziell zum Schrubben und Reinigen von siliziumbasierten Masken und Wafern für die Herstellung von Siliziumgeräten entwickelt wurde. Dieser Wäscher ist mit fortschrittlichen Steuerungssystemen und -mechanismen ausgestattet, die es den Bedienern ermöglichen, ihre Wafer und Masken präzise zu schrubben und zu reinigen. DNS SSW-629B verwendet eine Multi-Vacuum-Control (MVC) -Ausrüstung zum effizienten Waschen von Wafern und Masken. Dieses MVC-System besteht aus zwei Haupt- components―a vakuumgetriebenen Waschkopf und einer Saug-Reinigungseinheit. Der vakuumgesteuerte Waschkopf verwendet Druckluft, um Wafer und Masken kontinuierlich anzutreiben und zu schrubben. Die Saug-Reinigungseinheit saugt Fremdpartikel effektiv von der Oberfläche des Wafers und der Maske ab. DAINIPPON SSW 629B ist mit einem dicht verschlossenen Sprühemulsionsreiniger ausgestattet, der eine hoch kontrollierte und gleichmäßige Verteilung eines Emulsionsreinigers über die Oberfläche von Wafer und Maske ermöglicht. Dieser Emulsionsreiniger hilft, hartnäckige Partikel, Staub und Flecken aufzulösen und zu entfernen. Der Sprühemulsionsreiniger hilft auch, durch Schleppungen verursachte Defekte zu verringern. DAINIPPON SSW 629-B verfügt zudem über einen ultrapräzisen Masken-/Wafer-Drucksensor und eine CCD-Automatikausrichteinheit. Dieser Drucksensor wurde entwickelt, um Genauigkeit, Geschwindigkeit und erstklassige Leistung beim Waschen von Wafern und Masken zu gewährleisten. Die automatische Ausrichtmaschine sorgt außerdem dafür, dass das Werkzeug immer genau und sicher bedient wird. DAINIPPON SS-W629-B bietet verschiedene optionale Modi, wie ULTRASONIC, AUTOMATIC und MICROCLICK, um eine Vielzahl von Anwendungen zu erfüllen, einschließlich Wafer- und Masken-Nivellierung und Mikrostrukturierung. Dieses Asset bietet auch verschiedene Berichte und Protokolle, die es den Betreibern ermöglichen, den Fortschritt jedes Scrubbing-Prozesses zu verfolgen und zu überwachen. Insgesamt ist DAINIPPON SSW-629B ein fortschrittlicher und zuverlässiger halbautomatischer Wäscher, der mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet ist, so dass er für den Einsatz in Produktionsumgebungen für Wafer und Masken mit hohem Volumen geeignet ist. Das Multi-Vacuum-Control-Modell, der straffe Dichtungssprühemulsionsreiniger und die genauigkeitssteigernden Funktionen machen diesen Wäscher zu einer idealen Wahl für das Waschen und Reinigen von Wafern und Masken auf Siliziumbasis.