Gebraucht DNS / DAINIPPON SSW-629-B #293821351 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON SSW-629-B
ID: 293821351
Wafergröße: 4"- 6"
Scrubber, 4"- 6" Dual‑fluid ultrasonic wafer cleaning system.
DNS/DAINIPPON SSW-629-B ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der hauptsächlich für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist ein vollautomatisches System zum Reinigen, Waschen und Dekontaminieren von Wafern und Masken. Ihr Hauptziel ist es sicherzustellen, dass Produkte, die mit diesen Komponenten hergestellt werden, sauber und frei von Verunreinigungen bleiben, sowie die Reduzierung von Stillstandszeiten aufgrund von Staub oder Partikeln, die die Produktion beeinflussen können. DNS SSW-629B verwendet einen dreistufigen Ätzprozess, um den Wafer oder die Maske zu reinigen und zu schrubben. Der erste Schritt ist die Vorbehandlung, das ist die Entfernung von Verunreinigungen, die auf dem Wafer oder Maske sein können. Dies geschieht durch die Zugabe eines speziellen chemischen Gemisches auf das Substrat und manuelles Waschen, wodurch eine gründliche Abdeckung und vollständige Entfernung von Partikeln oder Verunreinigungen gewährleistet wird. Der nächste Schritt ist das Ätzen und Schrubben. Hier findet der Großteil der Reinigung statt. Der Ätzprozeß entfernt alle Verunreinigungen sowie alle oxidierten Rückstände, die sich an der Oberfläche entwickelt haben können. Das Waschverfahren verwendet ein spezielles Werkzeug, um eine gleichmäßige Waschung des Substrats und eventuell noch vorhandener Restverunreinigungen zu gewährleisten. Schließlich verwendet DAINIPPON SSW 629B eine spezialisierte Lösung für die Dekontamination. Diese Lösung trägt zur Verringerung des Risikos von Restverunreinigungen auf der Oberfläche des Substrats bei, wodurch sichergestellt wird, dass das Substrat frei von Verunreinigungen und einsatzbereit ist. DNS/DAINIPPON SSW 629-B ist ein ausgezeichneter Wafer- und Maskenwäscher für den Einsatz in der Halbleiterindustrie, da er in der Lage ist, sowohl für Wafer als auch für Masken schnell, effizient und gründlich zu reinigen. Es ist einfach zu bedienen und der dreistufige Ätzprozess sorgt dafür, dass Wafer und Masken sauber, dekontaminiert und gebrauchsfertig sind. Darüber hinaus sorgt es für minimale Ausfallzeiten und ermöglicht es dem Anwender, qualitativ hochwertige Produkte zu produzieren.
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