Gebraucht DNS / DAINIPPON SSW-80A #9389930 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SSW-80A ist ein Wafer- und Maskenwäscher für die Halbleiterherstellung. Es verwendet eine einzigartige Methode zum Sprühen von ionisiertem Wasser, um Partikel und Trümmer von empfindlichen Oberflächen zu entfernen, ohne sie zu beschädigen. DNS SSW-80A ist mit drei verschiedenen Tanks ausgestattet, die jeweils über einen eigenen, unabhängigen Sprühkopf verfügen. Der für die Waferwäsche ausgelegte Tank ist mit einer Reihe von Nuten ausgelegt. Dadurch können die gekrümmten Wafer richtig zur Reinigung ausgerichtet werden. Um den Waschvorgang zu starten, werden die Wafer in den geöffneten Tank gelegt. Um eine ordnungsgemäße Reinigung zu gewährleisten, wird dann der Deckel des Behälters verschlossen, um eine Vakuumdichtung zu erzeugen. Der Deckel hebt sich dann vom Boden des Tanks und eine Vakuumpumpe hilft, die Wafer an die Oberfläche zu ziehen. Sobald die Wafer fest an der Oberfläche des Tanks befestigt sind, füllt der Hochdrucksprühkopf den Tank mit entionisiertem Wasser und beginnt mit der Reinigung. Die Wafer können je nach Anwenderpräferenz einzeln oder mehrmals nacheinander gewaschen werden. Der zweite Tank von DAINIPPON SS-W80A ist für das Maskenschrubben konzipiert. Dieser Tank wird von einem drehbaren Arm gehalten und verfügt über einen spezialisierten Wascharm, der schonend, aber gründlich zu reinigen ist. Die Maske wird auf den Wascharm gelegt und dann mit deionisiertem Wasser besprüht, um Partikel und Trümmer loszuwerden, ohne die empfindlichen Oberflächen der Maske zu beschädigen. Mit diesem Wascharm können auch kleine Bauteile in verschiedenen Größen gereinigt werden. Der dritte Tank wird für einen Spül- und Blasvorgang verwendet, um restliche Trümmer aus der Maske und den Wafern zu entfernen. Dieser Tank enthält ein Gebläse, um Restschutt und Partikel auszublasen. Nach Abschluss werden die Wafer und Masken mit einem eingebauten Ventilator getrocknet, bevor sie in ihre Aufbewahrungsboxen oder Behälter zurückgebracht werden. SSW-80A ist ein ideales Werkzeug, um Partikel und Abfälle von empfindlichen Oberflächen einfach und effektiv zu entfernen. Seine drei unabhängigen Tanks wurden entwickelt, um Masken und Wafer richtig zu reinigen und seine effizienten Reinigungsfunktionen minimieren jede Ausfallzeit. Sein intuitives Design ermöglicht langfristig eine einfache Bedienung und Wartung und ist damit eine Top-Wahl für die Halbleiterproduktion.