Gebraucht ENG (Wafer & Maske Scrubber) zu verkaufen

Die von 'ENG' hergestellten Wafer- und Maskenwäscher sind hocheffiziente Reinigungssysteme für die Halbleiterindustrie. Diese Wäscher sind wesentlich für die Entfernung von Partikeln, Rückständen und Verunreinigungen aus Siliziumscheiben und -masken, wodurch eine optimale Leistung und Ausbeute gewährleistet ist. Die „ENG“ -Waferwäscher sind Analoga zu einigen der führenden Wäscher, die auf dem Markt erhältlich sind. Sie verfügen unter anderem über fortschrittliche Reinigungstechnologien wie Ultraschallreinigung, Megasonreinigung und Bürstenwäsche. Diese Technologien gewährleisten eine gründliche und präzise Reinigung auch in komplexen Strukturen und engen Räumen. Die Wäscher sind auch mit mehreren Reinigungsbehältern ausgestattet, so dass verschiedene Reinigungsprozesse und Lösungen gleichzeitig verwendet werden können. Einer der Hauptvorteile von „ENG“ -Wäschern ist ihre hohe Durchsatzfähigkeit, wodurch eine große Anzahl von Wafern oder Masken in kurzer Zeit gereinigt werden kann. Die Wäscher verfügen zudem über eine hervorragende Gleichmäßigkeitskontrolle, wodurch Schwankungen der Reinigungsqualität in den Wafern vermieden werden. Darüber hinaus bieten sie eine hervorragende Effizienz bei der Partikelentfernung und sorgen für eine hochreine Oberfläche für die nächsten Fertigungsschritte. Ein beliebtes Modell von 'ENG' ist der SWP-100 Waferwäscher. Dieser Schrubber ist bekannt für seine kompakte Bauweise und eignet sich daher für Reinraumumgebungen mit begrenztem Platzangebot. Es verwendet fortschrittliche Trocknungstechnologien wie die Stickstofftrocknung, um Wasserzeichen zu minimieren und eine trockene Oberfläche nach dem Reinigungsprozess zu gewährleisten. Weitere Beispiele für „ENG“ -Wäscher sind die SWP-200 und SWP-300, die höhere Durchsatzmöglichkeiten und zusätzliche Funktionen für anspruchsvollere Reinigungsanwendungen bieten. Abschließend bieten „ENG“ Wafer und Maskenwäscher modernste Reinigungstechnologien, hohe Durchsatzkapazitäten und hervorragende Partikelentfernungseffizienz. Diese Wäscher sind wesentliche Werkzeuge für die Halbleiterindustrie und sorgen für saubere und zuverlässige Wafer und Masken für eine optimale Geräteleistung.

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