Gebraucht FEI TEMLink 14471-001 #9215703 zu verkaufen

FEI TEMLink 14471-001 wafer & mask scrubber ist eine voll ausgestattete und hochautomatisierte Workstation, die die Reinigung von Wafern und Photomasken in der Halbleiterindustrie vereinfacht und verbessert. Dieser Wäscher kann mehrere Substrate einschließlich Semikonen, Quarz, Glas und Photomasken mit minimaler manueller Handhabung effizient und genau reinigen. Das System wird mit einem Vakuumfutter geliefert, um Wafer während des Reinigungsprozesses an Ort und Stelle zu halten. Das Spannfutter wird von einem integrierten automatisierten Controller gesteuert, der die Programmierung von Parametern wie Schrubbwinkel, Lösungstyp und Verweildauer ermöglicht. Der Scrubber bietet auch manuelle Override-Modi für den manuellen Betrieb. TEMLink 14471-001 verfügt auch über eine einfach zu bedienende Benutzeroberfläche mit Touch-Steuerung und Programmspeicher, die eine einfache Rezepterstellung, -speicherung und -abruf ermöglicht. Diese Rezepte können schnell auf die für jeden Reinigungsauftrag benötigten spezifischen Parameter abgestimmt werden. Der Lösungsspeicher hat genügend Platz, um zwei verschiedene Reinigungslösungen unterzubringen, die eine schnelle und effektive Reinigung bei gleichzeitiger Reduzierung von Abfall ermöglichen. Der Wäscher hat auch einen eingebauten Befeuchter, um Oberflächenfehler, statische Ladungen und Trümmer zu reduzieren. Darüber hinaus wurde das System entwickelt, um Geräusche und Vibrationen zu minimieren und den Bedienkomfort im Einsatz zu gewährleisten. Der Wäscher ist so konzipiert, dass er ohne manuellen Eingriff für längere Zeit arbeitet und somit eine ideale Lösung für stark frequentierte Produktionslinien ist. Der Wäscher kann Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm aufnehmen und ist in einem kleinen Platzbedarf für eine einfache Integration in eine Vielzahl von Produktions- und Reinraumumgebungen untergebracht. FEI TEMLink 14471-001 ist ein automatisierter, einfach zu bedienender und äußerst zuverlässiger Wäscher, der die Reinigung von Wafern und Masken verbessert und den manuellen Eingriff in den Prozess reduziert. Es ist eine ideale Wahl für Halbleiterhersteller, die eine schnelle und konsistente Reinigung von Substraten in einer Vielzahl von Umgebungen benötigen.