Gebraucht G&P TECHNOLOGY 412 #9067722 zu verkaufen

G&P TECHNOLOGY 412 ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der häufig in der Halbleiterindustrie zum Reinigen und Polieren von Substraten verwendet wird. Die Maschine dient zur Entfernung von Partikeln und Verunreinigungen, die sich während des Polierprozesses auf dem Wafer ansammeln. Es verwendet einen Mehrdrehkopf, um die Oberfläche des Wafers während des Spinnens in einer kreisförmigen Bewegung zu schrubben, um die Partikel zu entfernen. Der Schrubbvorgang wird durch einen Pinsel und Bürstenpolster unterstützt. Die 416 kann bis zu zwölf 8-Zoll-Wafer in einem Zyklus und bis zu 100 Wafer pro Stunde reinigen. 412 ist ein hocheffizientes Reinigungssystem, das die Entfernung von Partikeln und Rückständen ermöglicht, ohne die Waferoberfläche zu beschädigen. Es verfügt über vier Waschstationen, die zwei Reinigungsköpfe mit je zwei, versetzt, gegen den Uhrzeigersinn und im Uhrzeigersinn Spinnbürsten haben. Dies ermöglicht einen effizienteren Waschvorgang, da jede Bürste separat mit ihren eigenen Waschparametern schrubben kann. Die Waschparameter sind einstellbar und die Maschine ist in der Lage, mit verschiedenen Waschgeschwindigkeiten zu arbeiten, um verschiedene Wafer aufzunehmen. Die G&P TECHNOLOGY 412 verfügt zudem über ein Abfallwirtschaftssystem, das eine effiziente Entfernung von gereinigten Partikeln und Rückständen ermöglicht. Die Maschine hat ein kleines Reservoir, das die Partikel und Rückstände sammelt, die aus dem Wafer gewaschen werden. Das Reservoir verhindert eine Verschmutzung der Wafer während des Waschvorgangs. Die Maschine verfügt auch über einen Scheuermonitor und einen Alarm, der den Schrubbvorgang registriert und aufzeichnet und die Betreiber benachrichtigt, wenn etwas schief geht. Darüber hinaus verfügt 412 über ein automatisiertes Reinigungssystem, das die manuelle Arbeit reduziert und einen konsistenten und effizienten Reinigungsprozess gewährleistet. Es wurde so konzipiert, dass es benutzerfreundlich und einfach zu bedienen ist. G&P TECHNOLOGY 412 ist eine äußerst zuverlässige und effiziente Maschine, die einfach zu warten ist und eine hervorragende Reinigungslösung für Wafer und Masken bietet.