Gebraucht G&P TECHNOLOGY 412R #9067704 zu verkaufen

G&P TECHNOLOGY 412R ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der eine optimale Leistung in Bezug auf Reinigung und Trocknung von Wafern und Masken bietet. Es eignet sich für Siliziumscheiben und andere Substrate wie Glas, Quarz oder keramische Materialien. Dieser Wäscher kann bis zu 12-Zoll-Wafergrößen handhaben und unterstützt sowohl einstufige als auch zweistufige Wafersubstrate. Der Wäscher ist mit einer Reinigungsanlage bestehend aus zwei Schleudertrocknern ausgestattet. Die Schleudertrockner sind so konzipiert, dass sie eine saubere Oberfläche und keinen Schmutz zwischen dem Substrat und den Schleudertrocknern gewährleisten. Darüber hinaus ist der Wäscher mit einer Spülleitung und Zerstäuber für einen schnellen und effizienten Trocknungsprozess ausgestattet. Der gesamte Wäscher ist aus Edelstahl gefertigt und ermöglicht eine einfache Einrichtung und Bedienung. Der Reinigungsvorgang erfolgt in einer Vakuumkammer. Zunächst werden die Wafer oder Masken über einen Bandförderer in die Vakuumkammer geladen. Die Vakuumkammer ist so ausgelegt, dass sie während des Reinigungs-, Trocknungs- und Trocknungsprozesses abgesaugt wird. Das Vakuum verhindert, dass Abfälle in die Systemkammer gelangen und reinigt die Substrate von Verunreinigungen. Der Wäscher verwendet zur Reinigung eine Sprühapplikation, die von einer programmierbaren Steuerung gesteuert wird. Die Steuerung kann für verschiedene Reinigungsanwendungen wie manuell, halbautomatisch oder vollautomatisch programmiert werden. Sobald der Reinigungsprozess abgeschlossen ist, bietet der Wäscher eine gleichmäßige Reinigungsmethode mit einem schonenden Abblasen. 412R Wäscher verfügt auch über zwei Infrarot-Trockner. Diese Infrarottrockner entfernen Rückstände aus den Wafern/Masken und sorgen für eine gleichmäßige Trocknung über das gesamte Substrat. Die Drift-Steuerung des Wäschers ermöglicht eine präzise Temperaturanpassung entsprechend dem Material des Substrats. Darüber hinaus ist dieser Wäscher mit einer Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, einschließlich eines Sensors, der den Betrieb stoppt, wenn ein Wafer oder eine Maske blockiert ist und so vor Beschädigungen oder Personenschäden schützt. Ferner weist sie einen Feuchtigkeitssensor auf, der die Feuchtigkeit in der Kammer misst, um Beschädigungen des Substrats zu vermeiden. Um höchste Qualitätsleistung zu gewährleisten, wurde dieser Wäscher entworfen und gebaut, um die FDA-Anforderungen zu erfüllen. Mit seinem sauberen Design, seiner robusten Konstruktion und einer Vielzahl spezialisierter Sicherheits- und Qualitätsmerkmale ist G&P TECHNOLOGY 412R scrubber eine willkommene Ergänzung der Halbleiterindustrie.