Gebraucht GNBS NSGB1.5K #9373149 zu verkaufen

GNBS NSGB1.5K ist ein Wafer & Maskenwäscher, der bei der Reinigung von Wafer- und Maskenoberflächen vor und nach Lithographieverfahren für die Halbleiterherstellung hilft. Es verwendet eine fortschrittliche Drucklufttechnologie, um Wirksamkeit und Präzision des Reinigungsprozesses zu erzeugen. Im normalen Betrieb wird ein Gebläse mit variabler Geschwindigkeit verwendet, um Luft von der Oberseite der Einheit zu entnehmen und die Luft unter Druck zu setzen. Diese Druckluft wird dann in einem einzigartigen turbulenten Strömungsmuster durch eine Reihe von Düsenplatten freigesetzt, die eine starke und schonende Wäsche über die Wafer- oder Maskenoberfläche erzeugen. GNBS NSGB1.5K ist mit einem robusten Rahmen und starren Komponenten entwickelt, um sicherzustellen, dass es effektiv und effizient zwischen den Reinigungen durchführen. Der Wäscher ist auch mit der Fähigkeit einer breiten Palette von Umgebungsbedingungen konzipiert, von Staub und Feuchtigkeit bis hin zu einer Reihe von Reinigungslösungen. Das Gerät ist einfach zu bedienen, gebaut mit einer intuitiven, Mensch-Maschine-Schnittstelle, die Feedback auf Signalpegel und pH-Pegel bietet. Es hat auch einen eingebauten Filter, der Staub und andere Partikel aus der Luft während des Betriebs einfangen kann, so dass es eine sicherere Wahl für Wafer und Maskenproduktion. Das NSGB1.5K ist mit zwei leistungsstarken und flexiblen Vakuumsystemen zur Schmutzentnahme und Partikelentfernung während des Reinigungsprozesses ausgestattet. Ein Vakuum sammelt beim Waschen Schmutz von unter dem Wafer oder der Maske, während das andere Partikel aus der Luft sammelt. Beide Systeme ermöglichen es dem Wafer oder der Maske, staubfrei zu bleiben und sind mit Saugsteuerungssystemen ausgestattet, so dass der Bediener die Arbeitsbedingungen leicht auf die besten Ergebnisse einstellen kann. Darüber hinaus sind die Vakuumsysteme mit einem eingebauten Selbstreinigungssystem ausgestattet, mit dem das Gerät seine Effizienz im Laufe der Zeit aufrechterhalten kann. Dieser spezialisierte Wäscher verwendet fortschrittliche Technologie, um überlegene Reinigungsleistung zu liefern. Es hat auch ein patentiertes Düsenplattendesign, das ein laminares Strömungsmuster auf der Wafer- oder Maskenoberfläche erzeugt, wodurch ein gleichmäßiges und präzises Schrubben über seinen Bereich entsteht. Dadurch können Hersteller hohe Wafererträge erzielen und die Maskenzykluszeiten optimieren, was zu erhöhten Gewinnen führt. Insgesamt ist GNBS NSGB1.5K wafer & mask scrubber eine wertvolle Bereicherung für Halbleiterhersteller. Die fortschrittliche Drucklufttechnologie, flexible Vakuumsysteme und effiziente Selbstreinigungsfunktionen machen es zu einer zuverlässigen Wahl für eine effektive Oberflächenreinigung für Wafer und Masken.