Gebraucht HANKUK ULTRASONIC HMS-1600 HSN #9381583 zu verkaufen

HANKUK ULTRASONIC HMS-1600 HSN ist ein Wafer- und Maskenwäscher zur abrasiven Reinigung und Oberflächenpolierung von Wafermasken für die Halbleiterherstellung. Dieser leistungsstarke, multifunktionale Wäscher verfügt über eine Ultraschallfrequenz von 420 kHz, eine erweiterte Bewegungssteuerung und eine einstellbare Scheuergeschwindigkeit von 200 bis 800 Zyklen pro Minute. Es bietet auch eine breite Palette von Düsengrößen, so dass Benutzer die optimale Größe für ihre Wafer und Maske Reinigung Bedürfnisse zu wählen. Dieser Schrubber enthält verschiedene Funktionen, um ein effizientes und leistungsstarkes Schrubben zu ermöglichen, ohne die Oberfläche der Masken zu beschädigen. Ein selbstregulierendes Wasseraufbereitungssystem sorgt für eine Stabilisierung des Reinigungsmediums, bietet einen neutralen pH-Wert und hohe Abtragsraten. Darüber hinaus verfügt der Wäscher über eine leistungsstarke Motor- und Beschleunigungsregelung, mit der er Wasser schnell und präzise bewegen kann, um Wafermaskenoberflächen gleichmäßig und gründlich zu waschen. Der Schrubber bietet auch eine Reihe von Reinigungsmodi, einschließlich manuelle, Auto und „Super Scrub“, um eine Vielzahl von Kundenbedürfnissen in Bezug auf Reinigungsintensität und Dauer zu decken. Die integrierte Mensch-Maschine-Schnittstelle (HMI) zeigt detaillierte und benutzerfreundliche Verarbeitungsinformationen wie Zykluszeit und Wafermaskenposition. Es verfügt über eingebaute Sicherheitssensoren mit dringendem Stopp und automatischer Inbetriebnahme für mehr Sicherheit und Benutzerfreundlichkeit. Darüber hinaus reduziert HMS-1600 HSN die gesamte Reinigungszeit erheblich. Dank seiner fortschrittlichen Bewegungssteuerung ist dieser Wäscher in der Lage, bis zu 4-mal schneller zu schrubben als herkömmliche Wäscher, was zu einem viel kürzeren Reinigungszyklus führt. Zusätzlich kann es Schrubbaufgaben in nur 10 Minuten erledigen, je nachdem, welche Oberfläche gereinigt wird. Abschließend ist HANKUK ULTRASONIC HMS-1600 HSN ein fortschrittlicher und leistungsstarker Wafer- und Maskenwäscher, der für das effiziente und gründliche Waschen von Wafermasken für die Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Seine einstellbare Waschgeschwindigkeit, der Bereich der Düsengrößen, das selbstregulierende Wasseraufbereitungssystem und mehrere Reinigungsmodi ermöglichen es Benutzern, ihre Waschanforderungen auf sichere und schnelle Weise anzupassen.