Gebraucht HUGLE HS-1010 #293653659 zu verkaufen

HUGLE HS-1010 Wafer und Maske Scrubber ist eine Neuerung in der Welt der Reinigungswerkzeuge für die Halbleiter- und Mikroelektronik-Produktion. Diese Maschine verwendet fortschrittliche Technologie, um die Photomasken, Wafer und andere mechanische Teile zu reinigen, die für den Montageprozess wesentlich sind. HS-1010 verfügt über ein mehrstufiges Filtrationssystem, das es ermöglicht, Partikel von bis zu 10 Nanometern Größe zu entfernen. Dies bedeutet, dass sie Verunreinigungen, die aus den Ätz- und Abscheidungsprozessen entstehen, effizient wegscheuern kann. Der Luftdruck und die Temperatur sind auch an die spezifischen Anforderungen jeder Anwendung anpassbar. Der Wäscher verwendet für seine Waschwirkung einen leistungsstarken bürstenlosen Motor, der auf Geschwindigkeit, Richtung und Druck eingestellt werden kann. Dadurch kann der Wäscher Verunreinigungen von den Oberflächen von Wafer- und Maskenprodukten entfernen. Darüber hinaus kann der Wäscher mit einer optionalen Feder-Touch-Steuerung ausgestattet werden, so dass der Bediener die Waschparameter auf maximale Reinigungseffizienz einstellen kann. HUGLE HS-1010 ist auch mit einer Nasswäschemöglichkeit ausgestattet, die es ermöglicht, Verunreinigungen nicht nur viel schneller zu entfernen, sondern auch keine Schlieren oder Rückstände zurückzulassen. Die Nasswäschemöglichkeit verringert zudem die Gefahr einer Verunreinigung, da die Verunreinigungen ohne physikalischen Kontakt entfernt werden. Schließlich verfügt HS-1010 über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, darunter einen automatischen Abschaltschalter und einen Not-Aus-Knopf. Die Einheit ist auch CE-zertifiziert und gewährleistet, dass sie den höchsten Sicherheitsvorschriften in Europa entspricht. Abschließend ist HUGLE HS-1010 Wafer and Mask Scrubber eine ideale Lösung für Hochgeschwindigkeits- und Hochpräzisionswäscheanwendungen. Mit seinem fortschrittlichen mehrstufigen Filtersystem und seinem leistungsstarken bürstenlosen Motor ist es in der Lage, Verunreinigungen von Wafer- und Maskenprodukten mit minimalem Risiko von Kontaminationen und Beschädigungen effektiv zu entfernen. Darüber hinaus machen die Sicherheitsmerkmale und hohen Designstandards HS-1010 zu einer sicheren und zuverlässigen Wahl.