Gebraucht HUGLE HS-1010 #9099938 zu verkaufen

HUGLE HS-1010 Wafer und Maskenwäscher wurde entwickelt, um Verunreinigungen aus Photomasken und Wafern, die in der Halbleiter-, Elektronik- und Optoelektronikindustrie verwendet werden, effizient und effektiv zu entfernen. Diese Vorrichtung arbeitet mit hochwirksamen Waschköpfen, um die Oberfläche der Masken und Wafer schonend, aber gründlich zu schrubben. Es ist effizient und einfach zu bedienen, bietet ausgezeichnete Oberflächenreinheit für alle Produkte. HS-1010 verwendet zwei Schrubbköpfe. Der erste Kopf besteht aus weichen Borsten, die dazu ausgelegt sind, Partikel und Verunreinigungen von der Maske oder den Waferoberflächen zu entfernen, ohne Kratzer oder andere Beschädigungen zu hinterlassen. Der zweite Kopf ist so ausgelegt, dass er Lösungsmittel (üblicherweise Isopropylalkohol) auf die Oberfläche aufbringt, löst und feste Verunreinigungen löst und gleichzeitig den Reinigungsprozess erleichtert. HUGLE HS-1010 bietet drei Geschwindigkeiten (hoch, mittel und niedrig), so dass der Bediener die am besten geeignete Geschwindigkeit für den spezifischen Reinigungsprozess wählen kann. Die hohe Geschwindigkeit wird am besten zum Entfernen von hartnäckigen Trümmern verwendet, während niedrigere Geschwindigkeiten gewählt werden können, um empfindliche Oberflächen sanft zu reinigen. Dieses Gerät ist auch mit einem einstellbaren Zeitmerkmal ausgestattet, so dass der Bediener die optimale Waschzeit wählen kann. Dadurch wird ein perfektes Gleichgewicht zwischen Reinigungsleistung und Vermeidung von Übertrubbing erreicht. HS-1010 wird auch mit einem vollautomatischen Betriebszyklus ausgestattet, wodurch der Bediener den Prozess nicht manuell steuern muss. Diese Funktion schaltet das Gerät automatisch ein und aus und stellt die entsprechenden Geschwindigkeits- und Zeiteinstellungen ein, um sicherzustellen, dass die beste Sauberkeit erreicht wird. HUGLE HS-1010 wurde entwickelt, um die Produktivität in Reinraumumgebungen zu optimieren. Es ist leicht und einfach, um den Raum zu bewegen, und verfügt über einen geräuscharmen Betrieb, bietet eine saubere und komfortable Arbeitsumgebung. Zusammenfassend ist HS-1010 Wafer- und Maskenwäscher ein hochwirksames und zuverlässiges Gerät zur Reinigung von Photomasken und Wafern, die in der Halbleiter-, Elektronik- und optoelektronischen Industrie eingesetzt werden. Dieses Gerät bietet verschiedene Reinigungsmodi, einstellbare Zeiteinstellungen und automatische Betriebszyklen, so dass der Benutzer die geeignete Geschwindigkeit und Zeit wählen kann, um die beste Oberflächenreinheit zu erzielen. Dank seines leichten und geräuscharmen Designs eignet es sich ideal für den Einsatz in Reinraumumgebungen und ermöglicht eine schnelle und einfache Reinigung mit minimalen Unterbrechungen anderer Aktivitäten.