Gebraucht HUGLE HS-1810 #9382575 zu verkaufen

HUGLE HS-1810
ID: 9382575
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HUGLE HS-1810 ist ein fortschrittlicher Wafer- und Maskenwäscher, der in der Halbleiterindustrie zum Reinigen und Trocknen von Halbleiterscheiben und -masken verwendet wird. Es ist eines der zuverlässigsten und effizientesten Wasch- und Trocknungssysteme, die heute auf dem Markt erhältlich sind. HS-1810 ist darauf ausgelegt, Halbleiterscheiben und Masken schnell und effizient zu schrubben und zu trocknen. Das Gerät verwendet einen fortschrittlichen Waschmechanismus, der den Waschvorgang automatisiert und Ultraschallenergie verwendet, um unerwünschte Partikel aus dem Wafer oder der Maske zu entfernen. Dieses System hilft, den Prozess zu beschleunigen und die manuelle Reinigung zu eliminieren, die zu Fehlern im resultierenden Produkt führen kann. HUGLE HS-1810 ist mit einer langlebigen Edelstahlkonstruktion gebaut, so dass es sehr zuverlässig und vielseitig. Es verfügt über einen großen offenen Arbeitsbereich, der für bis zu 13 Wafer oder Masken gleichzeitig ausgelegt ist. Dies ermöglicht eine effiziente großflächige Reinigung und eignet sich somit ideal für Anwendungen sowohl in der Forschung als auch in der Industrie. HS-1810 verfügt auch über einen temperaturgeregelten Trockenschrank und eine einfach zu bedienende Schnittstelle mit Minicomputer-Einheit, die es einfacher und schneller zu bedienen macht. Darüber hinaus ist HUGLE HS-1810 mit speziellen integrierten Funktionen ausgestattet, die die Reinigung und Trocknung von Wafern und Masken erleichtern und effizienter machen. Die Maschine ist mit einem leistungsstarken Bürstenspinnmodul ausgestattet, das mithilfe der Mikrofasertechnologie Partikel effektiver wegschrubben kann. Dieses Modul verfügt außerdem über eine einstellbare Geschwindigkeitsregelung, mit der Sie die ideale Geschwindigkeit für Ihre speziellen Reinigungs- und Trocknungsanforderungen einstellen können. HS-1810 verfügt auch über ein Vakuumtrocknungswerkzeug, das nach Abschluss des Waschvorgangs die verbleibende Feuchtigkeit auf den Wafern oder Masken schnell entfernt. Insgesamt ist HUGLE HS-1810 eine fortschrittliche Reinigungs- und Trocknungsanlage, die speziell für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Die starke Konstruktion, der hocheffiziente Waschmechanismus und das fortschrittliche Trocknungsmodell machen dies zu einer sehr zuverlässigen und effizienten Ausrüstung für jede Anwendung, bei der Wafer oder Masken schnell und effektiv gereinigt und getrocknet werden müssen.
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