Gebraucht HUGLE UPC-12100 #293614925 zu verkaufen

HUGLE UPC-12100
ID: 293614925
Wafergröße: 12"
Foup cleaner system, 12" 2006-2008 vintage.
HUGLE UPC-12100 ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der zum Entfernen von Verunreinigungen, Materialschutt und Partikeln aus einer Photomaske und einem Wafer verwendet wird. Der Scrubber verwendet bewährte Technologie, die vorprogrammierte Scrubbing-Routinen, Geschwindigkeitsregelung und Optionen für anpassbare Einstellungen verwendet. Der Wäscher kann eine Vielzahl von Wafergrößen handhaben und hat eine überlegene Abrieb- und Chemikalienbeständigkeit. UPC-12100 ist mit einem hochwertigen Edelstahlrahmen und einem Polyurethan-Schaumwäschepolster aufgebaut, die eine überlegene Abriebfestigkeit und Chemikalienbeständigkeit bieten. Der Polyurethanschaum hilft, Kratzer zu beseitigen und gleichzeitig die empfindlichsten Oberflächen schonend zu reinigen. Das Scheuerpolster verfügt über ein eingebettetes Schleifmuster, das die Reinigungswirkung auf Photomasken- und Waferoberflächen verbessert. Der Scrubber arbeitet standardmäßig 120V Wechselstromeingang und wird über eine einfach zu bedienende digitale Steuerschnittstelle gesteuert. Die Schnittstelle enthält voreingestellte Scrubbing-Raten, anpassbare programmierbare Einstellungen und einen Timer. Die Waschraten sind für bestimmte Wafergrößen festgelegt und können für weitere Reinigungen oder Modifikationen an spezifische Anforderungen angepasst werden. Die digitale Steuerschnittstelle ist mit einer fortschrittlichen programmierbaren Benutzeroberfläche zur einfachen Anpassung an verschiedene Anwendungen ausgestattet. HUGLE UPC-12100 scrubber enthält auch ein staubdichtes Tablett und einen staubabsaugenden Ventilator. Dies trägt dazu bei, dass Partikel und Schutt aus dem Wäscher entfernt und während des gesamten Reinigungsprozesses gesteuert werden. Es verfügt auch über Wasserwirtschaftsfunktionen, die die Wasserverschmutzung reduzieren und Ressourcen schonen sollen. UPC-12100 Wäscher bietet zuverlässige und kostengünstige Wafer- und Maskenreinigungsfähigkeit. Es wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Anforderungen in einer Vielzahl von Branchen zu erfüllen. Dank der einstellbaren Waschraten, der benutzerfreundlichen Oberfläche und der überlegenen Abrieb- und Chemikalienbeständigkeit ist es die perfekte Lösung für Reinräume, Forschung und industrielle Umgebungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor