Gebraucht HUGLE UPC-12100 #293669287 zu verkaufen

HUGLE UPC-12100 Wafer & Mask Scrubber ist ein kritisches Stück Wafer Reinigungsstation Technologie in der Halbleiterherstellung verwendet. Sein Hauptziel ist es, Siliziumscheiben und Photomasken zu reinigen, die beide mit Partikeln und Rückständen aus der umgebenden Luft kontaminiert sein können, wodurch sie für die weitere Verarbeitung nicht geeignet sind. Das Design von UPC-12100 nutzt eine Kombination von Werkzeugen, um Wafer- und Maskenoberflächen effizient und zeitnah zu reinigen und zu desinfizieren. Es enthält einen Ultraschallreiniger im Kern, der hochfrequente Schallschwingungen verwendet, um die Waschleistung auf die Siliziumoberfläche zu übertragen, wodurch kleine Partikelschutt und Rückstände entfernt werden können. Dies geschieht in Verbindung mit einem speziell aufgebauten Wäschekissen, das dem zu reinigenden Objekt benachbart ist, das die Siliziumoberfläche massiert, um das Vorhandensein von Staub, Flüssigkeiten und anderen Materialien weiter zu minimieren. HUGLE UPC-12100 verfügt außerdem über einen Multifunktions-Reinigungsstab, der eine gründliche Reinigung mehrerer Objekte gewährleistet. Dieser Zauberstab hilft, aufeinanderfolgende Berstungen von Reinigungslösungen beim Schrubben oder Wischen einzelner Oberflächen zu liefern. Der Zauberstab wird durch ein Vakuum angetrieben, was bedeutet, dass er effektiv in enge Räume gelangen und keine Rückstände hinterlassen kann. Ein einzigartiges Merkmal von UPC-12100 ist seine Anpassungsfähigkeit an eine breite Palette von Oberflächen. Es verfügt über einstellbare Druckeinstellungen, die es dem Benutzer ermöglichen, sicherzustellen, dass der Reinigungsdruck für verschiedene Oberflächenstrukturen und Materialien korrekt angewendet wird. Dies ermöglicht ein konsistentes Schrubben von Objekten, ob klein oder groß. Darüber hinaus verfügt der Wäscher über einen automatischen Reinigungszyklus, der für eine erhöhte Reinigungseffizienz stoppt und wieder startet. HUGLE UPC-12100 ist mit einem ergonomischen Design und benutzerfreundlichen Steuerungssystemen für einfache Bedienung konzipiert. Das System ist effizient und spart Zeit mit seinem schnellen Waschvorgang, egal welche Größe Wafer oder Maske gereinigt wird. Darüber hinaus verfügt UPC-12100 über Sicherheitsfunktionen wie Niedrigwassererkennung und integrierte Alarme, um die Sicherheit des Benutzers zu gewährleisten. Insgesamt ist HUGLE UPC-12100 Wafer & Mask Scrubber ein benutzerfreundliches, effizientes und hoch kontrollierbares Werkzeug zur Verringerung der Wafer- und Maskenkontamination im Reinraum. Es ist ein wesentlicher Bestandteil des Waferreinigungsprozesses und trägt dazu bei, dass Ihre Siliziumprodukte frei von Verunreinigungen sind.