Gebraucht JELIGHT 342-320 #9185372 zu verkaufen

JELIGHT 342-320 ist ein Wafer & Maskenwäscher, der in der Halbleiterindustrie verwendet wird. Es wurde entwickelt, um Partikel von der Oberfläche von Siliziumscheiben und Photomasken zu reinigen und zu entfernen, die bei der Herstellung von integrierten Schaltungskomponenten verwendet werden. Der Wäscher verwendet eine Kombination aus Niederdruck, gefilterter Luft und pneumatischen Bürstenköpfen, um eine gründliche Reinigung von Wafer- und Photomaskenoberflächen zu erreichen. Der Wäscher wird manuell von einer Benutzeroberfläche bedient, mit der Sie die Waschparameter wie Luftdruck und Luftdurchsatz sowie den Bürstenkopftyp und die Bürstengeschwindigkeit einstellen können. Der Scrubber verfügt auch über einen Bordcomputer, der den Scrubbing-Prozess überwacht und sicherstellt, dass alle Parameter erfüllt sind. Dies gewährleistet eine gleichmäßige und saubere Waschung sowohl der Wafer- als auch der Photomaskenoberflächen. Die Vorteile von 342-320 Scrubber umfassen seine Fähigkeit, Partikel von der Wafer- und Photomaskenoberfläche mit einem minimalen Risiko für Schäden zu entfernen, dank seiner Niederdruck, gefilterte Luft und pneumatische Bürstenköpfe. Der Schrubber ist zudem einfach zu bedienen und bietet durchweg saubere Ergebnisse. Darüber hinaus ist das Design des Schrubbers kompakt und somit ideal für den Einsatz in überfüllten Fertigungsanlagen. Der Wäscher verwendet ein einzigartiges Dual-Flow-System mit einem Hochdruck-Wäscherfluss und einem Niederdruck-Prozessfluss. Dieses Dual-Flow-System ist so konzipiert, dass sowohl die Wafer- als auch die Photomaskenoberfläche gleichmäßig gewaschen werden, ohne dass Kratzer oder Beschädigungen entstehen. Der Schrubber verfügt auch über einstellbare Schaufelgeschwindigkeiten, so dass er für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. Insgesamt ist JELIGHT 342-320 ein effektiver Wafer- und Photomasken-Wäscher, der einfach zu bedienen ist, konsistente Ergebnisse liefert und ein platzsparendes Design hat. Es ist ideal für den Einsatz in der Halbleiterherstellung, da es Niederdruck ist, hat einstellbare Bürstengeschwindigkeiten, und sein Dual-Flow-System sorgt für ein gründliches und gleichmäßiges Waschen von Wafer- und Photomaskenoberflächen.