Gebraucht JELIGHT 342 #9357194 zu verkaufen

JELIGHT 342 wafer & mask scrubber ist ein Präzisionsgerät, das entwickelt wurde, um kleine Oberflächen ohne den Einsatz von rauen Chemikalien oder rauen Abrieb zu reinigen. Dieses Produkt eignet sich gut zur Reinigung der Oberflächen von Wafern und Masken, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden. 342 verwendet ein patentiertes Schaumwäschesystem, um organische Kontaminationen und Partikel von fragilen Oberflächen zu entfernen. Der Scheuerbereich ist flexibel, um sich an die Oberflächenkontur der Wafer und Masken anzupassen. Dies ermöglicht eine effiziente Reinigung, ohne dass die dünnen Schichten aus Metall und anderen Materialien, die die Oberfläche des Wafers und der Maske bilden, beschädigt werden. JELIGHT 342 verfügt über eingebaute Sicherheitsfunktionen. Das Gerät ist mit einem Notschalter ausgestattet, um den Waschvorgang zu stoppen, wenn die Gefahr einer Beschädigung des Wafers oder der Maske besteht. Dies ermöglicht ein äußerst präzises Reinigungserlebnis und reduziert die Gefahr von Oberflächenschäden. 342 arbeitet bei einer sicheren Temperatur und Luftfeuchtigkeit, so dass es nicht zu einem Ausfall von Masken oder Wafern führt. Das Schrubbelement ist verriegelt, so dass es sich nicht bewegt, so dass es weniger wahrscheinlich die empfindliche Oberfläche während des Schrubbvorgangs beschädigt. JELIGHT 342 ist komplett mit einer breiten Palette von Sicherheitsmerkmalen und einem soliden Aufbau, so dass es eine ideale Wahl für empfindliche Schrubbarbeiten. Die bereitgestellten Schaumreinigungspolster sind für den Einsatz auf weichen Oberflächen sicher, so dass das Gerät ohne Gefahr der Kontamination der Oberfläche verwendet werden kann. 342 ist hocheffizient und hat eine lange Lebensdauer. Es wurde entwickelt, um Verunreinigungen aus Wafern und Masken zu entfernen, was bedeutet, dass es für zahlreiche Anwendungen verwendet werden kann. Das einfache und sichere Design macht dieses Gerät zu einer beliebten Wahl für die Halbleiterherstellung. JELIGHT 342 ist eine zuverlässige und kostengünstige Reinigungslösung für Wafer- und Maskenoberflächen. Es ist Vielseitigkeit und Effizienz ermöglicht es, für eine Vielzahl von Zwecken verwendet werden. Die Sicherheitsmerkmale, lange Lebensdauer und zuverlässige Leistung machen dies zu einem großartigen Gerät für jeden Halbleiterherstellungsprozess.