Gebraucht JIUWEI TECH A 300 #9170641 zu verkaufen

JIUWEI TECH A 300 Wafer und Maske Scrubber ist ein automatisiertes Reinigungswerkzeug für Halbleiterscheibe und Photomaskenreinigung. Es ist mit einem Roboter Manipulator Arm und Reinigungsluftmesser ausgestattet. Ein 300 ist mit einem breiten Kammerreinigungsbereich für bis zu 300 mm Wafer und Maskengrößen ausgelegt. Die Wafer und Masken werden mittels einer speziellen Ladeplatte, die leicht geöffnet und geschlossen werden kann, sicher in die Kammer eingelegt. Der Roboterarm ist so ausgelegt, dass er sich entlang einer bestimmten Flugbahn bewegt und den Wafer oder die Maske genau über dem Reinigungsbereich positioniert. Das Reinigungsluftmesser ist in der Lage, seine Geschwindigkeit und seinen Winkel flexibel einzustellen, um eine gründliche Reinigung ohne hartes Kratzen, Streicheln oder Verschmieren der Waferoberfläche zu erreichen. Die Kammer ist auch mit einem doppelt integrierten und unabhängigen Fördersystem ausgestattet, mit dem sie 24 Stunden am Tag arbeiten kann. Das Luftmesser ist in der Lage, gleichmäßige Reinigungsparameter zu erzeugen und einen konstanten Kontakt mit der Waferoberfläche aufrechtzuerhalten. Die Kammer ist auch mit extrem niedrigem Inertgasverbrauch und umweltfreundlichem Stickstoff- (N2) Spülkreislauf ausgelegt. JIUWEI TECH A 300 Wafer und Mask Scrubber Benutzeroberfläche verfügt über ein mehrstufiges Icon-basiertes Steuerungs- und Überwachungssystem für Echtzeit-Betriebskontrolle. Es beinhaltet auch eine ausgeklügelte Software zur Prozessverfolgung und Rückverfolgbarkeit, die es dem Techniker ermöglicht, Prozessprobleme schnell zu identifizieren und Prozessanpassungen in Echtzeit vorzunehmen. Ein 300 Wafer und Maske Scrubber ist ideal für die Reinigung in fortschrittlicher Halbleitertechnologie. Es ist mit fortschrittlichen intelligenten Algorithmen ausgestattet, um einen zuverlässigen und effizienten Reinigungsprozess zu gewährleisten, ohne Ressourcen zu verschwenden oder Material zu beschädigen. Die Automatisierung und Steuerung des Systems verringert Fehler im Reinigungsprozess und sorgt dafür, dass die bestmögliche gleichmäßige Waferreinigung konsequent erreicht wird.