Gebraucht K&S 971 #9077085 zu verkaufen

K&S 971 ist ein Wafer- und Maskenwäscher für die Halbleiterherstellung. Es wird verwendet, um die Oberflächen des Wafers und der Maske während des Herstellungsprozesses zu reinigen, um sicherzustellen, dass sie frei von mikroskopischen Partikeln und Verunreinigungen sind. 971 verwendet eine Kombination aus mechanischem Rühren und flüssigkeitsgetragenen Materialien, um Partikel von den Oberflächen sowohl der Wafer als auch der Masken zu entfernen. K&S 971 nutzt eine mechanische Waschwirkung, die von einem Gleichstrommotor angetrieben wird. Dieser Motor erzeugt einen Schwingungssatz von bis zu 500 U/min, der eine Amplitude von 0,5 mm aufweist, was zu einem großen mechanischen Abrieb an der Oberfläche der zu bearbeitenden Materialien führt. Die Waschwirkung wird durch eine integrierte chemische Reinigungseinrichtung verstärkt, die eine spezifische Flüssigkeit verwendet, um mikroskopische Verunreinigungen abzubauen und wegzuspülen, die möglicherweise auf der Oberfläche der Wafer und Masken zurückgelassen wurden. 971 verfügt auch über einstellbare Druck- und Düsensteuerungsfunktionen, die es dem Benutzer ermöglichen, den genauen Waschdruck und den Düsenwinkel einzustellen, um die optimale Reinigungswirkung zu erzielen. Dadurch wird sichergestellt, dass die Waschwirkung stark genug ist, um Partikel zu entfernen, ohne übermäßig abrasiv zu sein und die darunter befindlichen Materialien zu beschädigen. Die K&S 971 enthält ein in sich geschlossenes Filtersystem, das in der Lage ist, sowohl Feststoffe als auch Aerosolpartikel aus der Waschflüssigkeit zu entfernen, um sicherzustellen, dass die Flüssigkeit sauber gehalten und Partikel entfernt werden, bevor sie wieder in die Reinigungseinheit zurückgeführt werden. Es gibt auch eine Materialrückgewinnungsmaschine, die alle Partikel sammelt und speichert, die während des Waschvorgangs aus den Wafern und Masken entfernt wurden. Dieses Rückgewinnungswerkzeug ist wichtig, um den während des Waschvorgangs anfallenden Abfall zu reduzieren. 971 verfügt auch über ein automatisiertes Kammerreinigungsmittel, das es dem Benutzer ermöglicht, die Waschkammer nach Abschluss eines Prozesses einfach und schnell zu reinigen. Dieses Modell spült alle an den Kammerwänden verbliebenen Partikel weg und sorgt dafür, dass während des Waschvorgangs keine Partikel zurückbleiben. Darüber hinaus verfügt K&S 971 auch über eine breite Palette von Sicherheitsmerkmalen wie wasserdichte Dichtungen, die ein Austritt von Flüssigkeiten aus der Anlage verhindern und den Bediener vor gefährlichen Dämpfen oder Sprays während des Waschvorgangs schützen. Insgesamt ist 971 ein effizienter und effektiver Wäscher für den Halbleiterherstellungsprozess. Es verfügt über eine integrierte mechanische und chemische Wirkung, die sicherstellt, dass die Oberflächen der Wafer und Masken während des Waschvorgangs sauber und frei von Verunreinigungen gehalten werden. Darüber hinaus arbeiten die einstellbaren Druck- und Düsensteuerungsfunktionen, das in sich geschlossene Filtersystem, die Materialrückgewinnungseinheit und die automatisierte Kammerreinigungsmaschine zusammen, um die Waschleistung zu maximieren und gleichzeitig die Sicherheit des Bedieners zu gewährleisten.