Gebraucht K&S 971 #9146108 zu verkaufen

K&S 971 ist ein Wafer- und Maskenwäscher der K&S Corporation, der für die Großproduktion von Halbleitern entwickelt wurde. Der Wäscher wurde entwickelt, um Siliziumscheiben und Photomaskenplatten, die in der Photolithographie verwendet werden, schnell zu reinigen und zu polieren. Der Wäscher kann verschiedene Reinigungsmethoden anwenden, einschließlich Läppen, chemisches Ätzen und mechanisches Waschen. 971 scrubber hat einen starken und langlebigen Aluminiumrahmen mit Edelstahlgittern und Dichtungen, entworfen, um häufige Reinigung unter rauen industriellen Bedingungen zu widerstehen. Der Wafer- und Maskenwäscher verarbeitet bis zu 12 "(30,5 cm) runde Siliziumscheiben und 8- oder 12-Zoll (20- oder 30,5-cm) Photomaskenplatten. Es funktioniert mit einer Schleifpaste, die auf beiden Seiten des Wafers oder der Maskenplatte aufgetragen wird. Der Läppvorgang ermöglicht eine reibungslose, gleichmäßige Reinigung. K&S 971 scrubber verfügt auch über ein einzigartig entworfenes Clipping-System, das ausreichend Druck bietet, um eine vollständige Reinigung zu gewährleisten. Der Schrubber verwendet einen achtstufigen Prozess mit vier verschiedenen Einstellungen für Läppdruck, die maximale Effizienz und optimale Qualität der Reinigung gewährleisten. Der Wäscher bietet eine einstellbare Reinigungsgeschwindigkeit, so dass er Wafer jeder Größe und Dicke verarbeiten kann. Der Scrubber verfügt über ein intuitives Bedienfeld, mit dem Bediener das Gerät schnell einrichten und ausführen können. Die dielektrischen Paddelkonstruktionen auf Polymerbasis reduzieren Geräusche und statische Elektrizität. Sie wirken auch, um die zerbrechlichen Wafer und Maskenplatten beim Läppen abzufedern. 971 Wäscher kann mit einer Vielzahl von verschiedenen Arten von Läppflüssigkeiten und Schleifmitteln für kundenspezifische Reinigungsanwendungen verwendet werden. Es kann sowohl mit chemischer als auch mit mechanischer Waschung verwendet werden, so dass Benutzer die richtige Waschtechnik für ihre spezielle Anwendung verwenden können. Der Wäscher verwendet auch Hochtemperaturtrocknung, die hilft, Feuchtigkeit aus den Wafern und Maskenplatten vor dem Läppen zu entfernen. K&S 971 scrubber ist ein effizientes Werkzeug zur schnellen und qualitativ hochwertigen Reinigung von großflächigen Halbleiterprodukten.