Gebraucht K&S 971 #9168286 zu verkaufen

K&S 971 ist ein automatisierter Wafer- und Maskenwäscher, der speziell entwickelt wurde, um die Integrität hochpräziser Prozesskomponenten wie Halbleiterscheiben, Photomasken und Flüssigkristallanzeigen zu reinigen und zu erhalten. Dieses einzigartige, präzisionsgesteuerte System nutzt drei Schritte der Sedimentation und des Polierens für die Vollflächenreinigung, die sowohl die Ober- als auch die Unterseite umfasst. Der Reinigungsprozess beginnt mit dem ersten Sedimentationszyklus, bei dem das Objekt in ein sanftes Bad aus Waschmittel, Wasser und einem Konditionierungsmittel getaucht wird. Anschließend wird mit einer Reihe verstellbarer Paddel gerührt und gleichzeitig durch einen Absorptionsfilter geführt. Dieser Prozess lockert und entfernt hartnäckige Partikel, die an der Oberfläche haften. Sobald der Sedimentationszyklus abgeschlossen ist, beginnt ein innovativer Polierkreislauf. Das Objekt wird wieder in ein frisches Wasch- und Wassergemisch eingetaucht, das dann mit einstellbaren Paddeln bewegt wird, und mit Hochdruckstrahlen wird ein starker Schleifstrom auf die Oberfläche geleitet. Dadurch werden eventuell verbleibende Verunreinigungen und feinere Partikel entfernt. Höchste Präzision erreicht das ISO-zertifizierte 971 mit der elektronischen Positionierfunktion. Dies ermöglicht das Reinigen und Schrubben von Gegenständen mit komplizierten und empfindlichen Oberflächen. Ein LCD-Display zeigt den Fortschritt der Reinigungs- und Polierschritte sowie die Bereitstellung von Zyklusendwarnungen und Statusanzeigen. K&S 971 verfügt über mehrere wesentliche Merkmale für eine optimale Reinigungsleistung. Präzisionsflüssigkeitsrückführung erhöht die Langlebigkeit des Reinigungsflüssigkeitsgemisches und sorgt dafür, dass die Verunreinigungen vollständig entfernt werden. Die voll einstellbare Einbauhöhe des Tanks und die verstellbare Artikelstütze sorgen für eine perfekte Passform und komplettes Eintauchen des zu reinigenden Stückes. 971 ist entworfen, um die Risiken der Beschädigung teurer und empfindlicher Prozesskomponenten zu minimieren. Dieses fortschrittliche System erhöht die Zuverlässigkeit der Komponenten und liefert ein konstant hervorragendes Reinigungsergebnis. Die kompakte Bauweise und der geringe Platzbedarf machen es zur richtigen Wahl für verschiedenste Reinigungsbedürfnisse.