Gebraucht K&S 971 #9195855 zu verkaufen

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K&S 971
Verkauft
Hersteller
K&S
Modell
971
ID: 9195855
Microwash station.
K&S 971 Wafer & Maskenwäscher ist ein kompakter, leichter und leistungsstarker Mehrzweckwäscher, der in der Wafer- und Fotoresistmaskenreinigung verwendet wird. Es ist für das nasse und trockene chemische Waschen von Einzel- oder Mehrfachmasken, einschließlich Aluminium, Quarz und Glas, konzipiert. 971 scrubber ist ein zuverlässiges Gerät für die Waferreinigung und die Entfernung von Photoresist, organischen Rückständen, Oxiden und anderen Oberflächenverunreinigungen im Prozess der Photolithographie. K&S 971 Wafer & Maske Scrubber hat zwei Modi zur Verfügung; Normaler Scrub-Modus und Deep Scrub-Modus. Im Modus Normales Scheuern schwingt der Scheuerkopf von Seite zu Seite, während eine sanfte Scheuerkraft auf die Waferoberfläche ausgeübt wird, was eine zuverlässige und konsistente Reinigungswirkung ermöglicht. Für hartnäckigeres Material wendet der Deep Scrub-Modus eine Reihe aggressiver Waschbewegungen an, um den Rückstand schnell zu entfernen, ohne die Oberfläche zu beschädigen. 971 ist mit einer Vielzahl von Badlösungen kompatibel. Das verstellbare Bad ermöglicht kundenspezifische Reinigungslösungen, die auf verschiedene Materialien mit der richtigen Konzentration von Chemikalien abzielen können. Darüber hinaus verhindert die separate Waschkammer das Eindringen von Verunreinigungen in das Bad sowie die Vermeidung chemischer Wechselwirkungen mit dem Wafer beim Waschen. K&S 971 bietet eine Reihe von Betriebsparametern für eine maßgeschneiderte Waschleistung, wie Wäschergeschwindigkeit, Schwingtiefe und Gesamt-Wäscherzykluszeit. Darüber hinaus verfügt 971 über ein integriertes Diagnosesystem, das die Scrubberleistung überwacht und Wartungszyklen verfolgt. Das System bietet diagnostisches Feedback, um die Scrubber-Leistung zu verbessern. K&S 971 Wafer und Maskenwäscher ist der effizienteste und zuverlässigste Wäscher für den Wafer- und Photolithographie-Prozess. Dank seiner Flexibilität und Diagnostik ist es die bevorzugte Wahl in der Halbleiterindustrie und ermöglicht die Herstellung hochwertiger Wafer- und Photolithographie-Produkte.
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