Gebraucht K&S 971 #9245116 zu verkaufen

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Hersteller
K&S
Modell
971
ID: 9245116
Microwash station.
K&S 971 ist ein innovativer Wafer & Maskenwäscher zur Reinigung von Wafern und Masken für verschiedene Halbleiterverarbeitungs- und Photolithographieanwendungen. Es nutzt einen optimierten Waschprozess, der maximale Effektivität bei minimaler Verschmutzung bietet. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und Design ist 971 gut für die Bedürfnisse der heutigen Chipindustrie geeignet. K&S 971 ist ein automatisiertes Wafer-Reinigungsgerät, das mit zwei Walzenbürsten sowohl Wafer als auch Masken reinigt. Die Bürsten sind genau abgestimmt, um Verunreinigungen von jeder Art von Oberfläche zu entfernen, was eine hervorragende Reinigungsleistung bietet, ohne den Wafer oder die Maske zu beschädigen. Die Bürsten können angepasst werden, um unterschiedliche Wafer- und Maskengrößen und -formen für eine erhöhte Vielseitigkeit aufzunehmen. Das Waschverfahren von 971 wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Verunreinigungen zu entfernen, einschließlich leichter organischer und anorganischer Verunreinigungen, und es ist auch wirksam für die Reinigung von Partikelverunreinigungen. Das System ist mit einer effizienten Reinigungslösung auf Wasserbasis ausgestattet, die Verunreinigungen sowohl aus Wafern als auch aus Masken leicht entfernen kann. Die Reinigungslösung ist schaumarm ausgelegt, wodurch die Gefahr einer Kontamination verringert wird. Eine fortgeschrittene Spüleinheit verwendet mehrere Spülungen, um eine vollständige Entfernung der Reinigungslösung zu gewährleisten. Dies trägt dazu bei, das Risiko einer Kontamination zu reduzieren und die Wafer- und Maskenausbeute zu verbessern. K&S 971 bietet eine Reihe von Sicherheitsfunktionen zum Schutz seiner Benutzer. Ein Strahlenschild schützt den Bediener vor streunender UV-Strahlung. Im Notfall kann ein Not-Aus-Schalter aktiviert werden. Ein Luftströmungssensor ist installiert, um mögliche chemische Gefahren zu erkennen. Darüber hinaus ist die Maschine auch mit einem Werkzeug zur Lecksuche ausgestattet, das mögliche Probleme in der Anlage erkennt und den Betrieb abschaltet, um mögliche Verunreinigungen zu vermeiden. Das anspruchsvolle Design von 971 macht es zuverlässig und einfach zu bedienen. Die Abtriebsdrehzahl und die genaue Taktung können an die gewünschten Prozessbedingungen angepasst werden. Es ist leise gebaut und enthält eine Lärmdämmung für eine verbesserte Arbeitsumgebung. Die Benutzeroberfläche bietet einfachen Zugriff auf alle Modellfunktionen. Servomotoren bieten eine präzise Motorsteuerung, die eine schnelle Anpassung der Ausrüstung ermöglicht. K&S 971 ist eine ideale Wahl für hohe Reinheit. Seine zahlreichen Eigenschaften und Fähigkeiten bieten einen zuverlässigen und effizienten Wafer & Maske Waschprozess für erhöhte Ausbeuten und reduzierte Kontamination. Mit seinem fortschrittlichen Design und dem effizienten Waschverfahren ist 971 eine ausgezeichnete Wahl für die Chipindustrie.
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