Gebraucht LAM RESEARCH DSS 200 Series II #293593770 zu verkaufen

LAM RESEARCH DSS 200 Series II ist ein hochmoderner Wafer- und Maskenwäscher, der in Labors und Produktionsstätten für die Herstellung elektronischer Geräte eingesetzt wird. DSS 200 Series II bietet eine hervorragende Leistung bei der Reinigung und Waschung von Wafern und Masken und bietet eine effektive Oberflächenbehandlung, die eine Verbesserung der Ausbeute und des Produktionsdurchsatzes ermöglicht. Mit einem Multifunktions-Design ist LAM RESEARCH DSS 200 Series II in der Lage, eine Vielzahl von Reinigungstechniken einschließlich Ein- und Mehrkopf-Schrubben, Sprühreinigung und Ultraschallreinigung. Mit seinem integrierten Design und der automatisierten Steuerung bietet die DSS 200 Series II eine präzise und präzise Reinigung von Wafern und Masken, um Oberflächenverunreinigungen zu entfernen. LAM RESEARCH DSS 200 Series II ist mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, um eine effektive Reinigung und Reinigung der Wafer und Masken zu gewährleisten. Sein leistungsstarker Elektronenwäscher wurde entwickelt, um eine gründliche und effektive Reinigung der Oberflächen zu gewährleisten, während seine große Arbeitsumhüllung eine effiziente Handhabung von Wafern und Masken gewährleistet. Die vollautomatisierten Reinigungs- und Waschprozesse sowie die integrierte automatisierte Rezeptureinrichtung und Prozesssteuerung sorgen jedes Mal für konsistente und wiederholbare Ergebnisse. DSS 200 Series II verfügt auch über eine Reihe von erweiterten Sicherheitsfunktionen, die das Risiko von Personenschäden während des Betriebs des Systems minimieren sollen. Dazu gehören Notabschalt- und Notspülfunktionen sowie Luft- und Flüssigkeitsfiltersysteme zur Vermeidung von Verschmutzungen. LAM RESEARCH DSS 200 Series II ist ein ideales Werkzeug für Labore und Produktionsstätten, die an der Herstellung elektronischer Geräte beteiligt sind. Seine zuverlässige Reinigungsleistung und automatisierten Prozesse sowie seine integrierten Sicherheitsmerkmale bieten eine hervorragende Leistung bei der Wafer- und Maskenreinigung, was eine erhöhte Produktivität und verbesserte Ausbeute bei der Geräteherstellung bietet.