Gebraucht LAM RESEARCH DSS 200 #293595364 zu verkaufen

LAM RESEARCH DSS 200 Wafer & Mask Scrubber ist eine hochmoderne Ausrüstung zur Reinigung von Dünnschichtätzresten im Halbleiterherstellungsprozess. Das System wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Substraten wie Silizium-Wafer, dielektrische Folie und metallische Masken sicher zu schrubben und wiederherzustellen. LAM RESEARCH ONTRAK DSS 200 besteht aus zwei Haupteinheiten; eine Basiseinheit und eine Wäschereinheit. Die Basiseinheit ist eine offene Rahmenkonstruktion mit einer ergonomischen Plattform zur ergonomischen Bedienung; einstellbare Messsteuerung; und eine Edelstahl-Waschwanne zur präzisen Flüssigkeitszufuhr. Die Wäschereinheit umfasst alle notwendigen Werkzeuge und Reinigungskomponenten, darunter eine drehbare Waferplattform, zwei Wäschekissen und zwei federbelastete Reinigungsfinger, für eine präzise und effiziente Reinigung. DSS 200 ist auch mit einem Temperatur-, Feuchtigkeits- und Druckregelgerät ausgestattet, das die optimalen Bedingungen für ein effektives Waschen gewährleistet. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, wie einem Griffschutz und einem automatischen Absperrwerkzeug, ausgelegt, um einen sicheren Betrieb zu gewährleisten. Die Anlage bietet eine Vielzahl fortschrittlicher Technologien, um ein Höchstmaß an Sauberkeit zu gewährleisten. Eine der bedeutendsten Weiterentwicklungen ist die Active Jet Purge™, die ein effizientes Waschen mit abrasiven Medien ohne Abrieb ermöglicht, um höchste Sauberkeit zu gewährleisten. Andere fortschrittliche Technologien wie Thermal Imaging, Extended Scrub Technology und Auto-Detect Rotation™ dazu beitragen, dass die richtigen Waschparameter für jedes Substrat verwendet werden. Zusätzlich zu den Scrubbing-Funktionen bietet ONTRAK DSS 200 eine fortschrittliche statistische Prozesskontrolle, mit der Anwender die Waschleistung und Sauberkeitsergebnisse verfolgen und analysieren können. Das Modell enthält auch mehrere Komfortfunktionen, wie automatische Start- und Auto-Stop-Modi, mehrfaches Be- und Entladen von Werkzeugen und Überwachung der Partikelanzahl. Infolgedessen bietet LAM RESEARCH DSS 200 eine effektive Lösung für die Entfernung von Dünnschichtätzrückständen und ist damit eine ideale Wahl für die Qualitäts- und Prozesskontrolle in der Halbleiterherstellung. Die Kombination seiner aktiven Reinigungstechnologien und fortschrittlichen statistischen Prozesskontrollfunktionen machen LAM RESEARCH ONTRAK DSS 200 zu einer leistungsstarken und effizienten Waschanlage, die Qualität und zuverlässige Ergebnisse gewährleistet.