Gebraucht LAM RESEARCH DSS 200 #9094834 zu verkaufen

LAM RESEARCH DSS 200 ist eine Waschanlage für Wafer und Masken, die für den Einsatz in Halbleiter- und Messtechnikprozessen bei der Herstellung von Komponenten wie integrierten Schaltungen entwickelt wurde. Es ist ein manuelles Verfahren, das eine Kombination aus milden alkalischen Reinigungsmitteln, Tensiden und Luft verwendet, um alle Arten von feinteiligen Verunreinigungen von Wafern und Masken zu reinigen und zu entfernen. LAM RESEARCH ONTRAK DSS 200 System verfügt über einen zweistufigen Reinigungszyklus, beginnend mit einer bildgebenden Score-Vorreinigungsstufe, um persistente Partikel, wie überschüssige Belichtungsmaterialien, von der Oberfläche der Wafer und Masken zu entfernen. Es folgt eine abschließende manuelle Reinigungsstufe, bei der die Wafer- und Maskenoberfläche mit einer Auswahl an Lösungsmitteln und Reinigungslösungen akribisch gewaschen und abgewischt wird. Mit diesem Verfahren werden feine Partikel, Schmutz, Staub und Öl entfernt, die nach der Vorreinigung zurückgelassen wurden. Mit einer Reinigung von sauberer trockener Luft wird dann der Reinigungszyklus abgeschlossen und die Wafer und Masken für die nächste Bearbeitungsstufe fertig getrocknet. Das Gerät ist für den Einsatz in Industrieeinstellungen konzipiert und integriert mit Standard-Halbleiter- und Messtechnik-Ausrüstung, so dass es einfach in bestehende Prozesse passen. Es ist robust und zuverlässig und verfügt über eine hohe Sicherheitsstufe von NEMA 12, so dass es für den Einsatz unter gefährlichen Bedingungen geeignet ist, einschließlich Bereichen mit potenziell brennbaren Materialien, die verwendet werden. DSS 200 ist kompakt, einfach zu bedienen und erfordert eine minimale Bedienerschulung. Es ist mit mehreren Funktionen ausgestattet, die die Prozesseffizienz und Genauigkeit erhöhen, wie die QuickClear Software, die ein schnelles Umschalten und Zurücksetzen der Maschine zwischen den Chargen ermöglicht, und der Masked Area Monitor, der zur automatischen Erkennung unbelichteter Bereiche auf Masken verwendet wird, wodurch die Genauigkeit erhöht und Fehler im Zusammenhang mit manuellem Schreduziert werden. Das Werkzeug verfügt auch über eine Reihe von einfach zu bedienenden Sicherheitsfunktionen, einschließlich einer Sicherheitstürverriegelung, um einen versehentlichen Betrieb während der Reinigungszyklen zu verhindern, sowie eine Dunstabzugshaube, um Gefahrstoffe zu enthalten, die während des Prozesses verwendet werden. Abschließend ist das ONTRAK DSS 200 Modell eine zuverlässige, robuste und effiziente Waschanlage für Wafer und Masken, die für den Einsatz in der Industrie entwickelt wurde. Es ist ideal für die Entfernung von feinteiligen Verunreinigungen aus Wafern und Masken, und verfügt über eine Reihe von Produktivität und Sicherheitsfunktionen, die es einfach zu bedienen und zu machen.